[实用新型]一种对高温物料进行焙烧的滚筒式焙烧装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种对高温物料进行焙烧的滚筒式焙烧装置。既能进行氧化焙烧，又能进行还原焙烧，还能进行组合式焙烧的。 

背景技术

很多金属和稀有金属是从原矿中提炼出来的，如：含钒石煤、含碳金矿、含铁硫锌矿或其他原矿。在从这些原矿中提炼金属或者稀有金属的过程中，至少需要经过一次焙烧工序。焙烧工序的目的，是通过对原矿的焙烧，将原矿中含有的碳、硫、或其他的可燃杂质脱除。将原矿中的可燃杂质脱除后，再进行必要的后续处理，最后将金属和稀有金属提炼出来。目前常用的焙烧装置有CFB锅炉、沸腾炉、立窑、回转窑或隧道窑。 

采用CFB锅炉或沸腾炉进行流化态脱除可燃杂质，受其装置构造的限制, 可燃杂质的脱除效果不佳。 

采用立窑脱除可燃杂质，填充率高，保温效果好，可以依靠物料自发热维持焙烧温度，能耗低，运行成本低，设备体积小成本低。但其物料间透气性差，气固反应不均匀，工作温度及气氛极难控制，容易结焦造成停机，可燃杂质的脱除效果不佳。 

采用回转窑或隧道窑脱除可燃杂质，其物料间透气性好，气固反应效均匀，工作温度及气氛效易控制，不容易结焦造成停机，小量结焦也不影响设备正常运转，焙烧质量高。但其填充率低，保温效果不好，一般不能依靠物料自发热维持焙烧温度，需要额外补充外热源，能耗高，运行成本高，设备体积大成本高。 

上述现有技术的焙烧装置，还存在共同的不足之处：就是无法在同一焙烧室内对同一原料进行氧化焙烧和还原焙烧的组合式焙烧。 

本案申请人于2013年6月4日向国家专利局提交了申请号为201310217187.6，名称为“一种多用途滚筒式焙烧装置”的发明专利申请。虽然基本上克服了上述现有技术的不足之处，但在实际运用中发现其不足之处：焙烧室内物料的供气还不够均匀，导致物料部分过烧或者部分欠烧，影响最终产品的品质和提炼率。 

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种在同一焙烧室内对同一原料能够进行氧化焙烧、还原焙烧、氧化焙烧和还原焙烧相互交替的组合式焙烧的，焙烧室物料中供气更加均匀的，生产效率高的，产品质量好的，能够节约能源的对高温物料进行焙烧的滚筒式焙烧装置。 

本实用新型的目的通过以下方式实现： 

所述装置包括支撑回转装置、焙烧室及耐火保温材料、进料口、出料口和供气主管；焙烧室的外壁设置至少两个支撑回转装置；供气主管顺序连接气量控制阀门、组合阀门和多源气源；所述焙烧室为能够绕其水平中心轴线回转的滚筒式结构；在焙烧室的一侧端板内套装一个密封装置，该密封装置中安装排气管和温度传感器；所述焙烧室的另外一侧端板与焙烧室的筒体为封闭式整体结构，该端板的外侧安装配气室，配气室与供气主管通过密封转动接头连接；在焙烧室的内壁安装多根与配气室连接的带孔喷气管。

所述带孔喷气管与配气室之间安装气体控制阀。 

所述气体控制阀为电磁控制阀门，电磁控制阀门的电源触头与供气控制环相互接触，供气控制环上设置两个平行的、相互绝缘的，在供气控制环的外表面上为圆弧结构的导电金属带；所述供气控制环通过支架安装在支撑回转装置的底座上。 

所述气体控制阀的电控部分与行程开关电连接，行程开关的控制臂与供气控制环相互接触，供气控制环的外表面上设置一个环形凹槽或环形凸台，且凹槽或凸台在供气控制环的外表面上为圆弧结构；所述供气控制环通过支架安装在支撑回转装置的底座上。 

所述气体控制阀为带弹力自动复位装置的机械式阀门，阀门控制杆与供气控制环相互接触，供气控制环对应阀门控制杆的位置设置一个环形凹槽或环形凸台，且凹槽或凸台在供气控制环的外表面上为圆弧结构；所述供气控制环通过支架安装在支撑回转装置的底座上。 

本实用新型的目的还可以通过以下方式实现： 

所述装置包括支撑回转装置、焙烧室及耐火保温材料、进料口、出料口和供气主管；焙烧室的外壁设置至少两个支撑回转装置；供气主管顺序连接气量控制阀门、组合阀门和多源气源；所述焙烧室为能够绕其水平中心轴线回转的滚筒式结构；在焙烧室的一侧端板内套装一个密封装置，该密封装置中安装排气管和温度传感器；所述焙烧室的另外一侧端板与焙烧室的筒体为封闭式整体结构，该端板的外侧安装配气室，配气室与供气主管通过密封转动接头连接；在焙烧室的外壁安装多根与配气室连接的外置供气管，每根外置供气管上安装多个喷嘴，喷嘴的出口位于焙烧室内。

所述所述外置供气管与配气室之间安装气体控制阀。