[实用新型]一种足浴盆有效
| 申请号： | 201320451807.8 | 申请日： | 2013-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN203417324U | 公开（公告）日： | 2014-02-05 |
| 发明（设计）人： | 颜为 | 申请（专利权）人： | 浙江立普电器有限公司 |
| 主分类号： | A61H33/00 | 分类号： | A61H33/00;A61H39/04;A61N5/06 |
| 代理公司： | 杭州赛科专利代理事务所 33230 | 代理人： | 曹绍文 |
| 地址： | 321400 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 浴盆 | ||
【权利要求书】：
1.一种足浴盆，其特征在于：包括底壳、上壳、挡水面板、药盒和排水管，所述的上壳上部与挡水面板连接，上壳表面设有开关面板，上壳两侧设有手柄，上壳与底壳通过螺丝连接，上壳底侧设有远红外装置、旋转按摩装置、药盒、气泡压板和过滤网，药盒一侧扣接有加热壳体，加热壳体内设有加热块，上壳后侧设有排水管。
2.根据权利要求1所述的足浴盆，其特征在于：所述的上壳底侧设有两个旋转按摩装置且两个旋转按摩装置处于药盒两边。
3.根据权利要求1所述的足浴盆，其特征在于：所述的上壳底侧后部左右两边各设有一个远红外装置。
4.根据权利要求1所述的足浴盆，其特征在于：所述的加热块包括底座、主体和翅片，底座上设有主体和封水圈槽，主体两侧设有若干翅片，翅片固定于底座上侧。
5.根据权利要求4所述的足浴盆，其特征在于：所述的底座上设有若干用于吹气的微孔。
6.根据权利要求1所述的足浴盆，其特征在于：所述的加热壳体外侧设有若干槽孔。
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