[实用新型]一种微透镜阵列组件

说明书

【技术领域】

本发明涉及光学元件领域，更具体地说是一种用于电子设备的微透镜。

【背景技术】

微透镜阵列是由通光孔径及浮雕深度为微米级的透镜组成的阵列，它不仅具有传统透镜的聚焦、成像等基本功能，而且具有单元尺寸小、集成度高的特点，使得它能够完成传统光学元件无法完成的功能，并能构成许多新型的光学系统。微透镜阵列将一个完整的激光波前在空间上分成许多微小的部分，每一部分都被相应的小透镜聚焦在焦平面上，一系列微透镜就可以得到由一系列焦点组成的平面。

目前常规的制造微透镜的方法有很多种，例如制备凸透镜的溶胶凝胶法、光刻胶熔融法、PMMA X光照射及熔融法等，这些方法对工艺有较高的要求，制备得到的透镜的均匀度一致性不易控制；还例如制备凹透镜的反应离子刻蚀法、电子束刻蚀法、激光刻蚀法、湿法刻蚀法等，由于基材的品质以及反应过程中的工艺控制等因素，在制备的过程中经常会出现一些非预定的小透镜。

所以目前市场上的微透镜阵列中不可避免地夹杂着一些非期望的不规则的微透镜。这样的不规则的微透镜严重影响微透镜阵列在使用过程中的稳定性。

本发明正是基于此种情况而生。

【发明内容】

本发明目的是克服了现有技术的不足，提供一种屏蔽了微透镜阵列中的非期望的不规则微透镜的微透镜阵列组件。

本发明是通过以下技术方案实现的：

一种微透镜阵列组件，其特征在于：包括由大量微透镜组成的微透镜阵列，所述的微透镜阵列上连接有盖板，所述的盖板具有焦距为f的微透镜的焦点落于其上的上平面，在所述的上平面上涂覆有金属遮蔽层，所述的金属遮蔽层与所述焦点对应位置处设有刻蚀孔。

如上所述的微透镜阵列组件，其特征在于：所述的微透镜阵列与所述的盖板之间设有粘连二者的粘合剂。

如上所述的微透镜阵列组件，其特征在于：所述的粘合剂为紫外光固化胶。

如上所述的微透镜阵列组件，其特征在于：所述的盖板为由玻璃或塑料制成的透明元件。

如上所述的微透镜阵列组件，其特征在于：所述的微透镜阵列为微凸透镜阵列。

如上所述的微透镜阵列组件，其特征在于：所述的微透镜阵列为微凹透镜阵列。

如上所述的微透镜阵列组件，其特征在于：所述的微透镜为圆形或方形。

如上所述的微透镜阵列组件，其特征在于：所述的金属遮蔽层为化学性质稳定的金属。

如上所述的微透镜阵列组件，其特征在于：所述的金属遮蔽层采用的金属为铬、铅、铜、银或金。

如上所述的微透镜阵列组件，其特征在于：所述的金属遮蔽层的透光率为1～10%。

与现有技术相比，本发明有如下优点：

1、本发明的微透镜阵列上设有带刻蚀孔的金属遮蔽层，屏蔽了微透镜阵列中的非期望的不规则微透镜，金属遮蔽层遮挡了射入不规则微透镜的光线，而射入期望得到的焦距为f的微透镜中的光线则从刻蚀孔内通过而不被遮挡，对所需的光线进行了选择性地会聚。

2、本发明结构简单，制造方便。

【附图说明】

图1是本发明微透镜阵列组件的剖面图；

图2是制备本发明微凹透镜阵列组件的步骤1得到的微凹透镜阵列组件的剖面图之一；

图3是图2中的微凹透镜阵列组件经制备本发明微凹透镜阵列组件的步骤2得到的微凹透镜阵列组件的剖面图；

图4是图3中的微凹透镜阵列组件经制备本发明微凹透镜阵列组件的步骤3得到的微凹透镜阵列组件的剖面图；

图5是图4中的微凹透镜阵列组件经制备本发明微凹透镜阵列组件的步骤4得到的微凹透镜阵列组件的剖面图；

图6是对图5中得到的微凹透镜阵列组件上的光刻胶进行曝光的示意图；

图7是图6中的微凹透镜阵列组件经制备本发明微凹透镜阵列组件的步骤7得到的微凹透镜阵列组件的剖面图；

图8是图7中的微凹透镜阵列组件经制备本发明微凹透镜阵列组件的步骤9得到的微凹透镜阵列组件的剖面图；

图9是图8中的微凹透镜阵列组件经制备本发明微凹透镜阵列组件的步骤10得到的微凹透镜阵列组件的剖面图；

图10是制备本发明微凹透镜阵列组件的步骤1得到的微凹透镜阵列组件的剖面图之二；

图11是图10中的微凹透镜阵列组件经制备本发明微凹透镜阵列组件的步骤2得到的微凹透镜阵列组件的剖面图；

图12是图11中的微凹透镜阵列组件经制备本发明微凹透镜阵列组件的步骤3得到的微凹透镜阵列组件的剖面图；