[实用新型]一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层有效
申请号: | 201320458277.X | 申请日: | 2013-07-30 |
公开(公告)号: | CN203485502U | 公开(公告)日: | 2014-03-19 |
发明(设计)人: | 黄新明;周绪成;尹长浩;钟根香;明亮;周海萍 | 申请(专利权)人: | 东海晶澳太阳能科技有限公司;南京工业大学 |
主分类号: | B32B3/24 | 分类号: | B32B3/24;B32B9/04;C30B28/06;C30B29/06 |
代理公司: | 广州知友专利商标代理有限公司 44104 | 代理人: | 李海波 |
地址: | 222300 江苏省连*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 生产 高效 多晶 铸锭 石英 坩埚 涂层 | ||
1.一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层,其特征在于,由下层氮化硅涂层(1)、中间层形核功能层(2)和上层氮化硅涂层(3)组成,所述下层氮化硅涂层(1)设置在坩埚本体(4)的底部,所述中间层形核功能层(2)设置在下层氮化硅涂层(1)上,所述上层氮化硅涂层(3)设置在中间层形核功能层(2)上,所述中间层形核功能层(2)上分布有均匀或不均匀的孔洞或裂缝。
2.根据权利要求1所述的一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层,其特征在于,所述中间层形核功能层(2)由高纯氮化硅、高纯硅微粉或高纯塞隆粉材料制成。
3.根据权利要求2所述的一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层,其特征在于,所述中间层形核功能层(2)的厚度为1-5mm。
4.根据权利要求3所述的一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层,其特征在于,所述孔洞为圆形、椭圆形或正方形孔洞,孔洞直径为0.1mm-1mm,孔洞间距为0.5-20mm。
5.根据权利要求4所述的一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层,其特征在于,所述裂缝为连续或断续的直线或曲线式裂缝,裂缝宽度为0.1mm-1mm,裂缝间距为0.5-20mm。
6.根据权利要求4或5所述的一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层,其特征在于,所述下层氮化硅涂层(1)和上层氮化硅涂层(3)的厚度为100-200μm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东海晶澳太阳能科技有限公司;南京工业大学,未经东海晶澳太阳能科技有限公司;南京工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320458277.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种新型推拉式育蚕箱
- 下一篇:一种治疗肿瘤的药物
- 同类专利
- 专利分类