[实用新型]用于沉积的掩模

权利要求书

1.一种用于在透明基板上形成图案的用于沉积的掩模，包含：

具有掩模对准标记的掩模元件，所述掩模对准标记贯穿地形成，以便对准在所述透明基板上形成的基板对准标记；和

不平整区域，所述不平整区域形成在所述掩模元件的一个表面上，以邻近所述掩模对准标记，所述不平整区域的表面包含突起和凹陷。

2.根据权利要求1所述的用于沉积的掩模，其中：

所述不平整区域漫反射入射到所述不平整区域的表面上的光。

3.根据权利要求2所述的用于沉积的掩模，其中：

所述不平整区域涂布有漫反射材料。

4.根据权利要求1所述的用于沉积的掩模，其中：

以低于所述用于沉积的掩模的一个表面的高度形成所述不平整区域。

5.根据权利要求4所述的用于沉积的掩模，其中：

所述不平整区域通过半蚀法形成。

6.根据权利要求1所述的用于沉积的掩模，进一步包含：

在所述掩模对准标记和所述不平整区域之间形成的平坦区域，所述平坦区域具有平坦表面。

7.根据权利要求6所述的用于沉积的掩模，其中：

所述平坦区域沿所述掩模对准标记的边缘形成。

8.根据权利要求6所述的用于沉积的掩模，其中：

所述平坦区域反射入射到所述平坦区域的平坦表面上的光。

9.根据权利要求8所述的用于沉积的掩模，其中：

所述平坦区域涂布有光反射材料。

10.一种用于在透明基板上形成图案的用于沉积的掩模，包含：

具有掩模对准标记的掩模元件，所述掩模对准标记贯穿所述掩模元件；和

被设置在所述掩模对准标记的至少两个相对侧的不平整区域，所述不平整区域包含不平坦表面，所述不平坦表面漫反射入射到所述不平整区域的不平坦表面的光。

11.根据权利要求10所述的用于沉积的掩模，所述不平整区域的不平坦表面涂布有漫反射材料。

12.根据权利要求10所述的用于沉积的掩模，所述不平整区域以低于所述用于沉积的掩模的表面的高度形成。

13.根据权利要求10所述的用于沉积的掩模，所述不平整区域形成为包围全部所述掩模对准标记。

14.根据权利要求10所述的用于沉积的掩模，进一步包含将所述掩模对准标记与所述不平整区域几何隔离的平坦区域，所述平坦区域具有平坦表面。