[实用新型]一种撞击流-旋转盘耦合反应装置有效

专利信息
申请号: 201320476604.4 申请日: 2013-08-06
公开(公告)号: CN203440102U 公开(公告)日: 2014-02-19
发明(设计)人: 刘有智;申红艳;张巧玲;栗秀萍;焦纬洲 申请(专利权)人: 中北大学
主分类号: C01F5/22 分类号: C01F5/22
代理公司: 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 代理人: 江淑兰
地址: 030051 山*** 国省代码: 山西;14
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摘要:
搜索关键词: 一种 撞击 旋转 耦合 反应 装置
【权利要求书】:

1. 一种撞击流-旋转盘耦合反应装置,其特征在于:包括撞击流-旋转盘耦合反应器,撞击流-旋转盘耦合反应器包括壳体,壳体内部中央设有圆盘,圆盘随其下方连接的转轴旋转,壳体顶部安装A进液管和B进液管,A进液管和B进液管的下端连接液体再分布器,A进液管和B进液管管道下方分别设有喷嘴,且两喷嘴相向对称设置,液体再分布器安装于圆盘的中心位置上方,反应器底部的转轴通过电机、变频器控制;反应器两侧分别设有A储液槽和B储液槽,A储液槽和B储液槽分别通过泵、流量计连接反应器的A进液管和B进液管。

2.根据权利要求1所述的撞击流-旋转盘耦合反应装置,其特征在于:所述A进液管和B进液管的下端内侧的喷嘴为圆形孔,其直径为1~3mm。

3.根据权利要求1所述的撞击流-旋转盘耦合反应装置,其特征在于:所述的液体再分布器上部设置为圆筒形,下部设置锥形出液口,液体再分布器焊接在A进液管和B进液管上;所述液体再分布器的出料端与圆盘相距2mm~20mm。

4.根据权利要求1所述的撞击流-旋转盘耦合反应装置,其特征在于:所述反应器壳体底部为双锥形出液口,壳体安装于水平台上,出液口与电机置于水平台下方。

5.根据权利要求1所述的撞击流-旋转盘耦合反应装置,其特征在于:所述A储液槽和B储液槽设置为密闭槽,在储液槽和进液管外壁均设有加热保温装置。

6.根据权利要求5所述的撞击流-旋转盘耦合反应装置,其特征在于:所述的加热保温装置是加热带。

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