[实用新型]晶圆片生产工序间的双面刷洗设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种晶圆片生产工序间的双面刷洗设备。

背景技术

目前，在晶圆片的制造过程中，众所皆知的是，由已经实施过的制造操作程序所遗留在晶片表面的不必要残留必须加以清洗。此般的制造操作范例包括有等离子体蚀刻和化学机械抛光法。若不必要的残留物质和微粒在连续的制造操作过程中遗留在晶片的表面，这些残留物质和微粒将会造成如晶片表面刮伤和金属化特征间的不适当的交互作用等瑕疵。在一些案例中，此般瑕疵可能导致晶片上的装置变得无法运作。欲避免由于丢弃具有无法运作的装置的晶片而所造成的额外费用，因此，当在晶片表面上遗留不必要的残余物的制造操作程序之后，必须适当并有效率地清洗晶片。在化学机械抛光工艺后实施的清洗步骤可以是：利用旋转的清洁刷在刷洗机内清洗晶片表面，利用清洁刷的旋转动作和清洁刷施加在晶片的压力，帮助剩余浆料从晶片表面上移除。

但是，公知化学机械抛光后晶片清洗设备多是简单的单面擦洗或人工刷洗传统工艺，清洗工艺复杂，无法达到令人满意的洁净度且效率低，沿着晶片表面的边缘可以看见剩余浆料和大量缺陷，另外，对晶圆片的二次污染也很严重，自动化率和产能也不高，因此，产业上还需要一种晶圆片生产工序间的双面刷洗设备，来解决上述问题。

发明内容

本实用新型解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种晶圆片生产工序间的双面刷洗设备，它能够使晶圆片表面加工过程中产生的颗粒污染物双面同步刷洗，满足晶圆片在下一道退火前工序的洁净度，代替了人工刷洗不均匀，耗时耗工，效率低和洁净度达不到要求的传统工艺。

为了解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：一种晶圆片生产工序间的双面刷洗设备，它包括机架、控制系统、晶圆片收纳装置和活性剂供给装置；还包括双面刷洗装置，双面刷洗装置包括刷洗支座、刷洗机构和第一驱动机构，刷洗支座安装在机架上，，刷洗机构具有多对同步转动的刷洗轴组件和分别套装在相应的刷洗轴组件上的毛刷，并且相邻的毛刷位于待洗晶圆片的两侧，刷洗轴组件可旋转地支承在刷洗支座上，第一驱动机构驱动刷洗轴组件旋转；还包括具有若干组喷嘴的移动喷淋装置，每组喷嘴对应一对刷洗轴组件，并且位于该刷洗轴组件的上方；还包括驱动辊装置，驱动辊装置包括第二驱动机构和多根驱动辊以及多组成对的摩擦轮，每组成对的摩擦轮对应一对刷洗轴组件，并且位于该对刷洗轴组件的下方以便支撑该处待洗晶圆片并使其旋转，摩擦轮分别套装在相应的驱动辊上，第二驱动机构驱动驱动辊旋转；还包括多个毛刷张开机构，每个毛刷张开机构对应一对刷洗轴组件，毛刷张开机构包括转轴、摆臂和摆缸，摆缸通过摆缸固定板安装在机架上，摆缸与转轴活动连接，转轴可旋转地支承在刷洗支座上，摆臂的一端固定连接在转轴上，摆臂的另一端与该对刷洗轴组件的其中一个固定连接以便该刷洗轴组件绕摆臂旋转使该对刷洗轴组件分离。

进一步，所述的移动喷淋装置还包括驱动电机、直线滑台副、喷管固定组件和喷管，直线滑台副上具有丝杠和螺母组成的丝杠螺母副，驱动电机与丝杠活动连接，喷管的一端安装在喷管固定组件上，喷管固定组件可滑动地安装在直线滑台副上，并且喷管固定组件与螺母固定连接，所述的多组喷嘴安装在喷管上并与其连通。

进一步，每组喷嘴包括活性剂喷嘴和纯水喷嘴，所述的喷管为双通道喷管，所述的喷管固定组件上安装有对射开关检测板，所述的直线滑台副上安装有与对射开关检测板相匹配的对射开关。

进一步，所述的刷洗轴组件包括弹簧、两个卡接轴和套装毛刷的毛刷轴，所述的机架上安装有和刷洗轴组件对应的轴承座，毛刷轴的两端分别与卡接轴的一端卡接，卡接轴的另一端分别支承在相对应的轴承座上，所述的弹簧安装在其中一个轴承座内，并且其套装在卡接轴上。

更进一步，所述的机架的底部设置有滑轮组。