[实用新型]裂解低聚硅氧烷除杂装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种硅氧烷除杂装置，特别是一种裂解低聚硅氧烷除杂装置。

背景技术  

低聚硅氧烷裂解是有机硅生产的重要生产过程，合成单元生产出的二甲基二氯硅烷经过精制、水解，成为低聚硅氧烷。低聚硅氧烷经过裂解，生成粗制二甲基硅氧烷混合环体，之后经过一系列处理生成二甲基硅氧烷混合环体。二甲基硅氧烷混合环体是有机硅行业重要原料，被用来生成硅橡胶、硅树脂等等。

低聚硅氧烷裂解工艺中直接产出粗制二甲基硅氧烷混合环体，但是生产出二甲基硅氧烷混合环体气体中一般约含600ppm的杂质，这些杂质一般含有硅醇钾盐、催化剂、反应不完全线状硅氧烷等。在负压条件下，这些杂质易发生缩合反应。随时间的延长，反应不完全的短链硅氧烷生成长链硅氧烷，甚至发生交联反应，粘连管道和设备，经常堵塞管道。给裂解单元连续生产带来了不便。一方面，管道堵塞需要清理，导致裂解单元频繁停开车，影响安全稳定生产。另一方面，这些杂物将影响二甲基硅氧烷混合环体质量。

发明内容

本实用新型的发明目的在于提供一种提高低聚硅氧烷裂解物质量的裂解低聚硅氧烷除杂装置。

本实用新型采用如下技术方案：

一种裂解低聚硅氧烷除杂装置，包括反应釜，冷凝器，回流罐，回流泵，反应釜与裂解塔直接连接，裂解塔与冷凝器直接连接，冷凝器与回流罐连接，回流罐与回流泵连接，回流泵的出口与裂解塔连接。      

采用上述技术方案的本实用新型与现有技术相比，气相杂质含量降低了80%，裂解物质量显著提高；结构简单，拆装方便；提高了生产稳定性。

附图说明

图1是现有技术的结构示意图。

图2是本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图及实施例详述本实用新型：

一种裂解低聚硅氧烷除杂装置，参见附图2，图中：反应釜1、裂解塔2、

冷凝器3，回流罐4，回流泵5。

反应釜1与裂解塔2直接连接，裂解塔2与冷凝器3直接连接，冷凝器3与回流罐4连接，回流罐4与回流泵5连接，回流泵5的出口与裂解塔2连接。裂解气体在裂解塔2内发生气液交换，除去气相杂质。

如图2所示，采用板式塔装置分离杂质，在负压条件下，反应釜1将低聚硅氧裂解后产生气相混合过通过导流结构管路a，进入板式塔2，与来自回流泵4来的液相混合物在筛板上进行分离除杂，除去大部分杂质后气相混合物经管路b进入冷凝器3，冷凝后液相混合物通过管路c进入回流罐4，液相混合物由管路d进入回流泵4，一部分液相混合物通过回流泵4送回板式塔，另一部分液相混合物由回流泵送至后续装置处理5，净化结果见附表2。

本实用新型提供降低二甲硅氧烷混合环体杂质含量的装置，同时提高一种低聚硅氧烷裂解物质量。解决了裂解单元的频繁停车与开车，同时提高了裂解单元的安全生产稳定性。

现有技术如图1所示，采用三级弯管装置分离杂质，在负压条件下，反应釜1将低聚硅氧烷裂解后产生的气相混合物通过三级弯管装置，首先进入管路a，气相混合物逐渐管路b，气相混合物温度逐渐下降，直至进入管路c，气相混合物进入冷凝器2，经冷凝器冷凝后冷凝液经管路d进入回流罐3，经管路e由回流泵4送至后续处理装置5，净化结果见附表1。

附表1