[实用新型]一种防水卷材成型装置有效

专利信息
申请号: 201320513060.4 申请日: 2013-08-21
公开(公告)号: CN203485453U 公开(公告)日: 2014-03-19
发明(设计)人: 陈伟忠;李维为 申请(专利权)人: 昆山科顺防水材料有限公司
主分类号: B29C70/50 分类号: B29C70/50;B29C70/54
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 张海英
地址: 215312 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 防水 卷材 成型 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及建筑用材的生产技术领域,尤其涉及一种防水卷材成型装置。

背景技术

传统的防水卷材生产线如图1所述,半浸滚筒半浸在料池中,胎体随同料液通过半浸滚筒的转动进入第一对压滚筒和第二对压滚筒之间,通过控制第一对压滚筒和第二对压滚筒之间的间隙来控制产品的厚度。胎体在成品中的位置(即防水卷材中胎体相对上下层涂料的位置)是通过半浸滚筒的调节来实现的;而半浸滚筒同时又起着将料液从料池中带入胎体的作用;而这两方面的需求有时候是矛盾的,容易导致胎体的上下层涂料厚度不符合要求。

图1所示的上产线中,上料口放出料液降落在胎体上,由于压力作用,胎体会下方的第二对压滚筒移动,从而使成品中的胎体位置偏下,导致到上下两面的涂料厚度不同,在涂料少的那面承受较大水压时,有可能出现穿孔。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供防水卷材生产线,能够控制上料口处的胎体位置,控制胎体相对于第一对压滚筒和第二对压滚筒的位置,进而有效控制胎体上侧和下侧的涂料厚度,获得合格的防水卷材。

为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:

一种防水卷材成型装置,包括上料口、第一对压滚筒和第二对压滚筒,防水卷材的胎体依次穿过上料口的下部、第一对压滚筒和第二对压滚筒之间;还包括平衡滚筒,平衡滚筒位于第一对压滚筒和第二对压滚筒之前的胎体的下方的位置。

优选的,胎体为自聚酯无纺布、聚酯网格布、玻纤无纺布或玻纤网格布。

优选的,平衡滚筒位于上料口的正下方的位置。

优选的,平衡滚筒位于上料口的下方左右500mm的范围内。

其中,还包括料池、池中定位滚筒、半浸滚筒,池中定位滚筒和半浸滚筒部分浸入料池中;池中定位滚筒位于半浸滚筒之前,半浸滚筒位于上料口之前;胎体依次环绕于池中定位滚筒的下部、半浸滚筒的上部。

其中,还包括胎体滚筒,胎体从胎体滚筒绕出进入料池。

其中,还包括池中进料口,池中进料口位于料池内。

优选的,还包括厚度测试仪、移动支架,厚度测试仪位于第一对压滚筒和第二对压滚筒的后部;平衡滚筒位于移动支架上,移动支架下部设置有移动轮。移动支架包括下支架、上支架;下支架滑动设置于上支架的内侧。厚度测试仪为两个,两个厚度测试仪分别位于胎体的上侧和下侧。

本实用新型中的涂料为沥青改性料。

本实用新型的有益效果为:一种防水卷材成型装置,包括上料口、第一对压滚筒和第二对压滚筒,防水卷材的胎体依次穿过上料口的下部、第一对压滚筒和第二对压滚筒之间;还包括平衡滚筒,平衡滚筒位于第一对压滚筒和第二对压滚筒之前的胎体的下方的位置。平衡滚筒能够支撑胎体,有效平衡上料口送料带来的压力,从而可以控制上料口处的胎体位置,控制胎体相对于第一对压滚筒和第二对压滚筒的位置,进而有效控制胎体上侧和下侧的涂料厚度,获得合格的防水卷材。

附图说明

为了更清楚、有效地说明本实用新型实施例的技术方案,将实施例中所需要使用的附图作简单介绍,不言自明的是,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域中的普通技术人员来讲,无需付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图做出其它附图。

图1是现有技术的一种防水卷材成型装置的生产结构示意图。

图2是本实用新型一种防水卷材成型装置的第一实施例的生产结构示意图。

图3是本实用新型一种防水卷材成型装置的第二实施例的生产结构示意图。

图4是本实用新型一种防水卷材成型装置的图3的A处的局部放大图。

图中:

1-料池;2-进料口;3-胎体滚筒;4-胎体;5-池中定位滚筒;6-半浸滚筒;7-上料口;81-第一对压滚筒;82-第二对压滚筒;9-平衡滚筒;10-移动支架;11-移动轮;12-下支架;13-上支架。

具体实施方式

本实用新型提供了一种防水卷材成型装置,为了使本领域中的技术人员更清楚的理解本实用新型方案,并使本实用新型上述的目的、特征、有益效果能够更加明白、易懂,下面结合附图2-4和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。

实施例一

一种防水卷材成型装置,包括上料口7、第一对压滚筒81和第二对压滚筒82,防水卷材的胎体4依次穿过上料口7的下部、第一对压滚筒81和第二对压滚筒82之间;还包括平衡滚筒9,平衡滚筒9位于第一对压滚筒81和第二对压滚筒82之前的胎体4的下部的位置。

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