[实用新型]一种多轴超声波加工机有效
申请号: | 201320521372.X | 申请日: | 2013-08-23 |
公开(公告)号: | CN203485647U | 公开(公告)日: | 2014-03-19 |
发明(设计)人: | 吴政宽 | 申请(专利权)人: | 连云港源钰金属制品有限公司 |
主分类号: | B44B1/00 | 分类号: | B44B1/00;B44B1/06 |
代理公司: | 广州市南锋专利事务所有限公司 44228 | 代理人: | 罗晓聪 |
地址: | 222000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 超声波 加工 | ||
技术领域:
本实用新型涉及雕刻设备技术领域,特指一种结构紧凑、生产效率高、使用简便的多轴超声波加工机,该多轴超声波加工机采用至少两个不同形状大小的模头对石材进行超声波高频振动,以实现对石材的雕刻,并能充分利用原料,减少边角料产生,且成品质量良好。
背景技术:
玉雕制品可以说是最能体现玉石之美的玉石产品,也是玉石文化的精髓所在。从古至今,中国的玉文化都广泛流传,且非常多人喜欢佩戴玉雕制品。
玉雕制品的内容很广,通常是指玉石表面甚至内部雕刻花纹、图案,如人物、鸟、兽、花卉、字等花纹或图案,形成各种形形色色的挂牌、挂件或佩饰、首饰品,以及陈设器皿等大件玉雕摆件。玉雕制品的精湛玉雕工艺使得玉石材料成为区别于其它自然宝石资源的独特而自成体系的一族,而玉雕工艺的好坏极大程度地影响着成品的价值。
中国是世界上雕玉最早的国家之一,而且中国的雕玉工艺经过几千年的发展,一精湛的技术和优美的造型著称于世,但是传统的雕玉方式均为人工雕刻,雕刻效率极低。首先,这种玉雕工艺首要要求是需要雕刻技术较为精湛的雕刻人员,否则导致玉雕制品的造型不美观,雕工不精而降低成品的价值。另外,为了确保成品率,避免浪费石材,人工雕刻时,必须需要精雕慢磨,因此,雕刻效率极低。
因此,出现了一种超声波雕刻机,该超声波雕刻机一般包括:一具有工作台的基座、安装基座中的超声波功率发生器、与超声波功率发生器配合的换能器,其中,该换能器中设置有一个与工作台匹配的振动头,并通过该振动头实现对玉石进行雕刻,形成玉雕制品。该超声波雕刻机虽然能够解决上述的技术问题,但是还存在一些不足:
1、目前通过超声波雕刻机对玉石进行雕刻时,每个模头对应一个玉件。这样就限制了模头的尺寸无法太大,一般局限于雕刻直径不超过20公分的小玉件。在雕刻之前,一般都会选择与所需要成型的玉件大小匹配的石材,或者将较大的石材切割成多个与所需要成型的玉件大小匹配的小石材;然后,再通过超声波雕刻机进行雕刻,以形成所需要成型的玉件。上述超声波雕刻机的结构限制了其加工方式,导致在将石材雕刻形成所需要成型的玉件后,都会产生较多的边角料,造成极大的浪费。
2、目前的雕刻机中,由于基座上的工作台是固定不动的,而振动头只能通过人工手动调节其高度,使其压住放置于工作台的玉石,随后,振动头通过超声波功率发生器及换能器的配合,在玉石上成型花纹或图案,形成玉雕制品。整个生产过程自动化程度不高,导致生产效率低下。
有鉴于上述技术问题,本发明人提出以下技术方案。
实用新型内容:
本实用新型的目的在于克服现有技术的不足,提供一种结构紧凑、生产效率高、使用简便的多轴超声波加工机,该多轴超声波加工机采用至少两个不同形状大小的模头对石材进行超声波高频振动,以实现对石材的雕刻,并能充分利用原料,减少边角料产生,且成品质量良好。
为了解决上述技术问题,本实用新型采用了下述技术方案:该多轴超声波加工机包括:一基座,该基座上安装有一可沿X/Y轴方向移动的水平移动平台,一超声波加工装置,其包括:安装基座中的超声波功率发生器、与超声波功率发生器配合的换能器,以及设置在换能器下端的超声波振头;所述的超声波振头包括至少两个形状大小不同的第一超声波振头及第二超声波振头,其中,该第一超声波振头及第二超声波振头下端分别设置有形状大小不同的第一模头及第二模头,该第一模头及第二模头的雕刻面分别设置有大小不相同的图案凸起和/或图案凹陷,并通过该第一模头及第二模头分别对稳定放置于水平移动平台上的被雕刻物进行雕刻,令被雕刻物上形成多个大小不相同且相互紧靠的图案造型。
进一步而言,上述技术方案中,所述基座后端安装有一竖直方向的支撑座,所述的换能器通过一Z轴移动座安装于支撑座上,令安装于换能器上的第一超声波振头及第二超声波振头均在支撑座上可沿Z轴方向移动。
进一步而言,上述技术方案中,所述的第一超声波振头及第二超声波振头分别通过一伸缩机构安装于所述的换能器下端,通过该伸缩机构控制第一模头和第二模头相互凸出,以单独对稳定放置于所述水平移动平台上的被雕刻物进行雕刻。
进一步而言,上述技术方案中,所述的伸缩机构为气缸机构。
进一步而言,上述技术方案中,所述第一模头中雕刻面的图案凸起和/或图案凹陷大于第二模头中雕刻面的图案凸起和/或图案凹陷。
进一步而言,上述技术方案中,所述的水平移动平台上设置有用于对被雕刻物进行定位的夹具。
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