[实用新型]紫外辐射臭氧光清洗机

说明书

【技术领域】

本实用新型涉及清洗设备的技术领域，特别是紫外清洗机的技术领域。 

【背景技术】

众所周知，在生产加工高新技术产品精密部件的过程中，对工件（如半导体集成电路、液晶器件、表面波器件、印制电路板等高密度基片类的部件）的表面洁净度要求极高。传统工艺中的化学清洗已经不能满足要求，近年来正在开发紫外辐射臭氧光清洗技术。 

紫外辐射臭氧光清洗的特点是：清洗后的洁净度能够达到原子级，它借助光和气的作用把基片表面粘附的各类有机物彻底清除干净，是一种非接触式的干法表面清洗技术，它不触及表面也不污染环境。 

紫外辐射臭氧光清洗的基本原理是：在特定波长(253.7nm)和强度的紫外光照射下基片表面粘附的有机物（碳氢化合物）发生光敏过程，即有机化合物的分子吸收特定波长光子能量后，分子链被撕破，分解为离子、游离态原子、受激分子或中性分子；另外在特定波长(184.9nm)和强度的紫外光的照射下空气中的氧气分子(0₂)吸收光子能量后会变成臭氧(0₃)和原子氧(O)；原子氧的化学性质活拨，具有很强的氧化作用，能把基片表面上粘附的有机物的光敏分解物全部氧化，变成水蒸气(H₂0)和二氧化碳(C0₂)等可挥发性气体逸离基片表面，随气流排出，达到彻底清洗基片表面的目的。 

把光清洗从原理转化成为实用的设备必需突破许多关键技术，特别是要设计出高效率、高可靠的光源和一个优化的清洗环境（光源在照射舱内的配置、工件的运行状态、清洗过程的持续时间、控制程序等等）。优化设计的关键是把 “光敏”和“氧化”这两个互相依存又彼此制约的物理和化学过程在照射、清洗舱里恰当地搭配好、协调好和综合地利用好。紫外光源灯管发出的两个波长(184.9nm；253.7nm)的强度，多个灯管摆放的间距，灯管与工件间的距离，灯管排列的取向（相对于加工流水线工件移动的方向）等都会影响对工件照射量的强度和均匀度，也影响照射舱内臭氧发生的强度。因为臭氧对紫外光会有一定的遮挡，因而在舱内的臭氧浓度也是敏感参数，臭氧量过多会妨碍光敏效果，过少又不足以完成氧化，必须调控在恰当的范围。所以照射舱内的温度和排风量的控制也至关重要。紫外光清洗是一个复杂的多变量系统过程，要经过精心设计和试验才能达到高质量、高效率和稳定有序的运行和生产。 

传统的紫外光清洗机采用一般的电子镇流器和紫外灯作为光照系统，目前紫外线镇流器与灯头的连接线大都是4根（带预热功能的镇流器）或2根（不带预热功能的镇流器），由于受到连接线数量的限制，镇流器的功能单一，大多数镇流器不能进行IP地址的编写，也没有带IP地址的灯头，不能为灯头供电和实现对灯头数据互相传输的功能，无法实时监测紫外灯的使用情况，同时现有技术的紫外光清洗机在传送系统上存在着工件运送不平稳导致工件接受的紫外光照总量不均匀的缺点，而冷却系统则存在冷却效果不佳等缺点。 

【实用新型内容】

本实用新型的目的就是解决现有技术中的问题，提出紫外辐射臭氧光清洗机，能够克服镇流器的功能单一，镇流器不能为灯头供电和不能实现对灯头数据互相传输的功能，同时还能解决工件光照不均匀和散热效果差等问题。 

为实现上述目的，本实用新型提出了紫外辐射臭氧光清洗机，包括壳体和上盖，所述壳体内安装有光照系统、传送系统、冷却系统和多传感器控制系统，所述光照系统包括智能型可编址紫外灯电子镇流器和紫外灯，智能型可编址紫外灯电子镇流器与紫外灯相连接，所述紫外灯包括紫外灯管和带IP地址的铝灯 头，紫外灯管与带IP地址的铝灯头相连接。