[实用新型]一种MOCVD反应炉

权利要求书

1.一种MOCVD反应炉，包括炉筒，炉筒上部的炉盖部件，炉筒内部的主盘部件；其特征在于：炉盖部件包括，炉盖本体（41）、炉盖上盖（42）、氢气进入口（43）、MO源进气部件（44）、水冷控温板（45）氢气膜形成环（46）；炉盖上盖（42）在炉盖本体（41）的上方，氢气进入口（43）在炉盖上盖（42）上；水冷控温板（45）在炉盖本体（41）的下面，氢气膜形成环（46）在水冷控温板（45）的下面；并且相邻两个氢气膜形成环（46）之间有缝隙；

主盘部件结构包括，主盘（61）、副盘（62）、上保持架（63）、陶瓷滚珠（64）、下保持架（65）；MO源进气部件在炉盖本体的中轴线上；主盘上有n个圆环状的台阶孔，圆环状的下保持架在台阶孔内，陶瓷滚珠在下保持架上，圆环状的上保持架在陶瓷滚珠上；n个副盘在上保持架上；副盘的下表面边缘有齿状结构，与主盘下方的固定在石英护板上的定齿轮相互啮合，其中n大于等于2。