[实用新型]一种用于真空镀膜的屏蔽箱

说明书

技术领域

 本实用新型涉及镀膜技术领域，具体地说是一种增强镀膜腔室对金属层的吸附能力并防止在镀膜过程中金属残渣掉落在被镀工件上的用于真空镀膜的屏蔽箱。

背景技术

在真空镀膜过程中，由镀膜源发出的金属蒸汽被沉积到被镀工件的同时，也会部分溅射到镀膜腔室的内壁上，久而久之造成腔室内壁上金属层的累积，这些金属层一方面会影响到腔室的工作效果，另一方面清理起来很不容易，造成不必要的人力物力损失。而且随着镀膜次数或时间的增加，镀膜腔室内壁上沉积的金属层也越来越厚，而这些金属层在腔壁表面附着并不稳固，在镀膜过程中金属残渣就非常容易掉落在被镀工件上，造成被镀工件的镀膜缺陷。

发明内容

本实用新型的目的是针对现有技术的不足，本实用新型提供一种增强镀膜腔室对金属层的吸附能力并防止在镀膜过程中金属残渣掉落在被镀工件上的用于真空镀膜的屏蔽箱。

本实用新型的目的是通过以下技术方案解决的：

一种用于真空镀膜的屏蔽箱，包括外壳和屏蔽片，其特征在于所述的外壳内设有多个独立设置的屏蔽片，屏蔽片相互之间平行设置且每个屏蔽片上皆设有多个通孔。

所述的外壳呈“凵”形且外壳的内壁上设有沟槽，每个屏蔽片皆沿相应的沟槽插入外壳内。

所述的通孔均匀分布在屏蔽片且任两个屏蔽片上的通孔皆相互对应。

所述的外壳和屏蔽片采用钢材、铜材、铝材或合金材料制成。

本实用新型相比现有技术有如下优点：

本实用新型采用的屏蔽箱，由于具有多个独立的屏蔽片且每个屏蔽片上具有多个空孔，可以在多次镀膜或长时间镀膜中有效吸附金属层，金属残渣也不会掉落在被镀工件上，从而减少了被镀工件的镀膜缺陷，达到改善镀膜膜层光学和机械性能的目的；该屏蔽箱可以根据需要单独或组合地安装在镀膜腔室内镀膜源附近适当的位置。

本实用新型的屏蔽箱内具有多个相互独立的屏蔽片，可以根据需要抽取分离和单独清洗，有效的减少了不必要的人力物力损失；具有结构简单、使用方便且吸附效率高的特点，适宜推广使用。

附图说明

附图1为本实用新型的结构示意图。

其中：1—外壳；2—屏蔽片；3—通孔。

具体实施方式

下面结合附图与实施例对本实用新型作进一步的说明。

如图1所示：一种用于真空镀膜的屏蔽箱，包括外壳1和屏蔽片2，外壳,1和屏蔽片2采用钢材、铜材、铝材或合金材料制成，在外壳1内设有多个独立设置的屏蔽片2，屏蔽片2相互之间平行设置且每个屏蔽片2上皆设有多个通孔3，通孔3均匀分布在屏蔽片2且任两个屏蔽片2上的通孔3皆相互对应。具体地说，外壳1呈“凵”形且外壳1的内壁上设有沟槽，每个屏蔽片2皆沿相应的沟槽插入外壳1内。

本实用新型采用的屏蔽箱，由于具有多个独立的屏蔽片2且每个屏蔽片2上具有多个空孔3，可以在多次镀膜或长时间镀膜中有效吸附金属层，金属残渣也不会掉落在被镀工件上，从而减少了被镀工件的镀膜缺陷，达到改善镀膜膜层光学和机械性能的目的；多个相互独立的屏蔽片2可以根据需要抽取分离和单独清洗，有效的减少了不必要的人力物力损失；具有结构简单、使用方便且吸附效率高的特点，故该屏蔽箱可以根据需要单独或组合地安装在镀膜腔室内镀膜源附近适当的位置。

以上实施例仅为说明本实用新型的技术思想，不能以此限定本实用新型的保护范围，凡是按照本实用新型提出的技术思想，在技术方案基础上所做的任何改动，均落入本实用新型保护范围之内；本实用新型未涉及的技术均可通过现有技术加以实现。