[实用新型]一种带有静端保护装置的真空灭弧室有效

专利信息
申请号: 201320597435.X 申请日: 2013-09-23
公开(公告)号: CN203481128U 公开(公告)日: 2014-03-12
发明(设计)人: 汪路;赵芳 申请(专利权)人: 陕西宝光真空电器股份有限公司
主分类号: H01H33/664 分类号: H01H33/664
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 罗笛
地址: 721006 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 带有 保护装置 真空 灭弧室
【权利要求书】:

1.一种带有静端保护装置的真空灭弧室,包括本体(1)和静端面(3),其特征在于,所述静端面(3)上套有静端保护装置(2)。

2.如权利要求1所述的一种带有静端保护装置的真空灭弧室,其特征在于,所述静端保护装置(2)为中空的圆柱体,静端保护装置(2)的两端均设有开口。

3.如权利要求2所述的一种带有静端保护装置的真空灭弧室,其特征在于,所述静端保护装置(2)的高度和其外圆直径的比例为1:8.3。

4.如权利要求2或3所述的一种带有静端保护装置的真空灭弧室,其特征在于,所述静端保护装置(2)一端的开口与静端面(3)为过盈配合,另一端开口的直径大于静端面(3)的直径。

5.如权利要求4所述的一种带有静端保护装置的真空灭弧室,其特征在于,所述静端保护装置(2)上与静端面(3)贴合的位置处设有凸台(4),凸台(4)为与静端面同轴的环形。

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