[实用新型]一种清洗装置有效

专利信息
申请号: 201320599735.1 申请日: 2013-09-26
公开(公告)号: CN203635584U 公开(公告)日: 2014-06-11
发明(设计)人: 刘利萍;刘俊豪;孔益;叶超前;管礼志 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: B08B11/04 分类号: B08B11/04
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 柴亮;张天舒
地址: 230011 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 清洗 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型属于基板清洗技术领域,具体涉及一种清洗装置。

背景技术

在薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,TFT-LCD)生产过程中,玻璃基板表面通常会残留很多颗粒(如玻璃碎屑、灰尘、微小有机物或纤维等),如果不及时有效地清除这些颗粒,将会产生如金属层之间短路、大面积脱落等不良现象,从而影响液晶显示器的各种性能。在TFT-LCD生产过程中,清洗工艺是重复次数最多的工艺,直接决定了TFT的良品率。

当前,对于玻璃基板的清洗,针对不同的颗粒采用不同的清洗技术。一般地,等离子体(Plasma)清洗用于清除玻璃基板上的有机物残留;毛刷喷淋(brush+shower)用于清除玻璃基板上粒径为10微米以上的颗粒;压力喷射用于清除玻璃基板上粒径为1-10微米的颗粒;双流体喷射用于清除玻璃基板上粒径为1-5微米的颗粒;超声波清洗技术则可以用于清除玻璃基板表面上的不同粒径的颗粒。

超声波清洗技术是在清洗液中使用超声波对玻璃基板进行清洗。相对于其他清洗装置的物理冲击的清洗原理,超声波清洗技术利用了空蚀作用,空蚀作用是指利用清洗液中的微型气泡的内爆裂进行玻璃基板表面的清洗。其中微型气泡的内爆裂是由于清洗液中的液体的压力变化导致的,当液体处于负压状态时,液体的沸点会降低,从而产生许多小气泡;当液体处于正压状态时,小气泡就会发生猛烈的内爆裂,因此空蚀现象使清洗液产生了搅拌和洗涤作用,这样可以较好的清洗玻璃基板的表面。

发明人发现现有技术中至少存在如下问题:而目前的玻璃基板的清洗装置存在以下的不足:

1、当采用物理冲击清洗时,针对不同粒径的颗粒采用不同的清洗机台,造成了机台的高成本投入,并在各种机台的转换过程中会浪费较多的工时且易引入新的颗粒。

2、当采用物理冲击清洗时,对于尺寸较小并顽固附着的颗粒的清洗效果并不明显,且对清洗需要使用的蒸馏水和添加溶剂消耗较大。

3、采用超声波对玻璃基板表面进行清洗时,超声波频率发生器的振子发出的超声波容易在清洗液中产生驻波等相干效应而影响超声波对玻璃基板表面的清洗。

因此,有必要提供一种高效、低成本的玻璃基板的清洗装置以解决现有技术中存在的问题。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题包括,针对现有的清洗基板的技术存在的或投入成本较高或清洗效果不理想的问题,提供一种效率高且成本低的清洗装置。

解决本实用新型技术问题所采用的技术方案是一种清洗装置,包括抽吸装置,所述抽吸装置用于对基板待清洗表面外清洗液体或气体进行抽吸,还包括至少一个用于保持真空度并形成涡旋气流的筒状元件,其两端均设开口,所述筒状元件的一端朝向所述抽吸装置,另一端朝向基板。

优选的是,所述筒状元件为圆锥台形,其半径较小的一端朝向所述抽吸装置,半径较大的一端朝向基板。

进一步优选的是,所述筒状元件包括第一筒状元件和第二筒状元件,第二筒状元件设于第一筒状元件内。

更进一步优选的是,所述第二筒状元件的外壁设有至少一个导流槽。

优选的是,所述清洗装置还包括支架,其与所述筒状元件连接,所述支架用于调节所述筒状元件与基板之间的距离。

优选的是,所述清洗装置还包括排出单元,其用于将所述抽吸装置旋转吸附的清洗液体和/或空气排出。

优选的是,所述抽吸装置包括涡轮。

进一步优选的是,所述抽吸装置还包括驱动单元。

更进一步优选的是,所述驱动单元包括电动机。

再进一步优选的是,所述电动机为调速电动机。

本实用新型的清洗装置的抽吸装置对基板待清洗表面外的清洗液体或气体进行连续的抽吸,配合使用圆锥台形状的筒状元件形成强力涡旋流体,涡旋流体对基板表面具有强大的吸附力,从而清除掉附着在玻璃基板表面上的颗粒或其他杂质,从而能够产生较好的清洗效果。

附图说明

图1为本实用新型的实施例1的清洗装置的结构示意图;

图2为本实用新型的实施例1第一筒状元件和第二筒状元件的透视结构示意图;

其中附图标记为:1、回收装置;2、玻璃基板;3、清洗液体;4、筒状元件;41、第一筒状元件;42、第二筒状元件;421、导流槽;5、抽吸装置;6、排出单元;7、支撑柱。

具体实施方式

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