[实用新型]涂布装置

说明书

技术领域

本实用新型有关于一种涂布装置，特别是指一种可进行图形化涂布的涂布装置。

背景技术

溶剂型涂布利用液体具有粘度与流动的惯性力涂于一个固体载体表面上以产生一个均匀薄膜的精密技术，广泛的应用在半导体制程，面板加工技术与光学膜制作技术上。目前涂布技术例如有身计量式(self-metering)的含浸式涂布(dip coating)、滚筒式涂布(roller coating)、刮刀式涂布(blade coating)、喷涂式涂布(inkjet coating)及点胶式涂布(dispensing)。当光学涂液或是功能性涂液涂布在基材上之后一般需要通过后制程将涂布层图形化，例如先将光阻剂涂布在基材上烘焙成膜，再利用曝光显影技术将薄膜图形化。光学胶涂布亦然，先将可拨胶印刷在载板上，在光学胶涂布初固化后，再将可拨胶移除，得到图形化涂布层。后制程的增加不只是提高的生产成本外，也容易因外来污染物影响涂布层外观。

传统的狭缝式涂布装置，所涂布的图形图案是具有一固定宽度的形状(例如矩形形状)，或是具有规则形状。但随着设计的不同需求，有些产品所需的图形图案是需要有变化性的(例如不规则形状)，因此传统设备不能满足这样的需求。

实用新型内容

为解决现有技术的问题，本实用新型主要目的在于提供一种通过活动垫片的调整而控制涂液在基材上的图形，以符合二维图形化涂布要求的涂布装置。

本实用新型实施例提供一种涂布装置，用以将一涂液涂布于一基材上，以形成一涂布层，该涂布装置包括：一涂布头，具有一涂液出口，该涂布头与该基材适于沿一第一轴向相对移动，并通过该涂液出口用以将该涂液涂布于该基材；一调节件，连接于该涂布头，该调节件包含一设置于该涂液出口处的活动垫片，该活动垫片适于沿一第二轴向移动，以调节该涂液出口的开口率；以及一驱动组件，与该调节件相接，用以控制该调节件沿该第二轴向移动。

根据上述构思，更包括一承载平台，用以承载被涂布的该基材。

根据上述构思，该基材通过真空吸附、静电吸附，或机械装置的方式固定在该承载平台上。

根据上述构思，该涂布头包括一公模以及一母模，该公模与该母模对应结合，该活动垫片配置于该公模与该母模之间。

根据上述构思，该涂布装置还包括一固定垫片，配置于该公模与该母模之间，且该活动垫片与该固定垫片沿一第三轴向进行排布。

根据上述构思，在该涂布头与该基材沿该第一轴向进行相对移动时，该活动垫片沿该第二轴向移动，调整该涂液出口的开口率。

根据上述构思，该调节件还包括一感应凸轮，该感应凸轮连接于该活动垫片。

根据上述构思，该驱动组件为一图形模块，该图形模块具有一侧边，该侧边对应于该涂布层的形状，该感应凸轮可沿该侧边作动。

根据上述构思，该图形模块设置在该涂布头的至少一侧。

根据上述构思，该涂布装置更包括一涂液存储器以及一涂液输送组件，该涂液存储器连通于该涂布头，而该涂液输送组件用以将外部的该涂液输送至该涂液存储器中。

根据上述构思，该涂液输送组件为泵。

根据上述构思，更包括一涂液压力控制组件，用以控制该涂液存储器输送至该涂布头的该涂液的输送压力。

根据上述构思，该涂液压力控制组件为马达。

根据上述构思，该涂布装置更包括一控制单元，该控制单元包含神经网路系统或可编程电脑控制系统。

根据上述构思，该驱动组件为电脑数值控制系统，其连动控制该调节件的移动。

本实用新型的有益效果在于，实施例所提供的涂布装置，通过在涂布头移动的过程中，活动垫片与涂布头的相对位置可改变，以此，涂布头在移动的过程中经由调整涂液出口的开口率，而使涂布的图案具有不规则形状。

为了能更进一步了解本实用新型为达成既定目的所采取的技术、方法及功效，请参阅以下有关本实用新型的详细说明、图式，相信本实用新型的目的、特征与特点，当可由此得以深入且具体的了解，然而所附图式与附件仅提供参考与说明用，并非用来对本实用新型加以限制者。

附图说明

图1A至图1C是本实用新型一实施例的涂布装置于使用状态中的立体示意图。

图2是本实用新型一实施例的涂布装置的局部立体示意图。

图3是图2的涂布装置的局部爆炸示意图。

图4A至图4B是图2的涂布装置于使用状态中母模的局部剖面示意图。

图5为本实用新型一实施例的涂布装置沿第三轴向的上视图。