[实用新型]含金属掺杂的类金刚石厚膜有效
申请号: | 201320606186.6 | 申请日: | 2013-09-29 |
公开(公告)号: | CN203546141U | 公开(公告)日: | 2014-04-16 |
发明(设计)人: | 钱涛;赵德民;乐务时 | 申请(专利权)人: | 星弧涂层新材料科技(苏州)股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27 |
代理公司: | 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 | 代理人: | 陆明耀;陈忠辉 |
地址: | 215122 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 掺杂 金刚石 | ||
1.一种含金属掺杂的类金刚石厚膜,其特征在于:包含基材(1)、结合层(2)、掺杂层(3)和功能层(4),所述掺杂层(3)和功能层(4)结合形成一复合层,所述基材(1)的上表面设有结合层(2),所述结合层(2)的上表面设有依次叠加的复合层且所述掺杂层(3)和功能层(4)间隔设置,所述结合层(2)与复合层中的掺杂层(3)结合,所述类金刚石厚膜的厚度大于4μm。
2.如权利要求1所述的含金属掺杂的类金刚石厚膜,其特征在于:所述类金刚石厚膜的厚度大于10μm。
3.如权利要求1所述的含金属掺杂的类金刚石厚膜,其特征在于:所述基材(1)为合金钢片、Si片、陶瓷片中的一种。
4.如权利要求1所述的含金属掺杂的类金刚石厚膜,其特征在于:所述结合层(2)为Cr、Ti、Ni、Si中的一种,所述结合层(2)的厚度为200~300nm。
5.如权利要求1所述的含金属掺杂的类金刚石厚膜,其特征在于:所述掺杂层(3)中掺杂的金属为W、Ti、Cr中的一种或多种,所述掺杂层(3)的厚度为80~120nm。
6.如权利要求1所述的含金属掺杂的类金刚石厚膜,其特征在于:所述功能层(4)为DLC膜层,其厚度为450~550nm。
7.如权利要求1所述的含金属掺杂的类金刚石厚膜的制备方法,其特征在于:所述功能层(4)的厚度大于所述掺杂层(3)的厚度。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的