[实用新型]蒸发源装置和真空蒸镀设备有效
| 申请号： | 201320627187.9 | 申请日： | 2013-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN203976897U | 公开（公告）日： | 2014-12-03 |
| 发明（设计）人： | 沐俊应;马大伟;乔永康 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/26 | 分类号： | C23C14/26 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蒸发 装置 真空 设备 | ||
1.一种蒸发源装置，其特征在于，包括：蒸发腔室和对蒸发材料进行加热并将加热后的蒸发材料传输至所述蒸发腔室内的进料腔室，所述蒸发腔室与所述进料腔室连接；
所述蒸发腔室的侧壁上设置有通孔，所述进料腔室通过所述通孔与所述蒸发腔室连接；
所述进料腔室包括：对蒸发材料进行预先存储的储料腔室和对蒸发材料进行预先加热的加热腔室，所述加热腔室的一端与所述储料腔室连接，所述加热腔室的另一端与所述蒸发腔室连接；
所述加热腔室包括：第一腔体和设置于第一腔体内侧的第一加热层。
2.根据权利要求1所述的蒸发源装置，其特征在于，所述进料腔室还包括：第一隔离装置，所述第一隔离装置设置于所述储料腔室与所述加热腔室之间。
3.根据权利要求1所述的蒸发源装置，其特征在于，所述加热腔室内设置有至少一个第二隔离装置，全部所述第二隔离装置将所述加热腔室分割为多个加热子腔室。
4.根据权利要求1所述的蒸发源装置，其特征在于，所述储料腔室的截面形状为倒梯形。
5.根据权利要求1所述的蒸发源装置，其特征在于，所述蒸发腔室与所述进料腔室之间还设置有进料管道，所述进料腔室内的蒸发材料经过所述进料管道进入所述蒸发腔室。
6.根据权利要求1所述的蒸发源装置，其特征在于，所述进料腔室的数量为多个。
7.一种真空蒸镀设备，其特征在于，包括：蒸发源装置，所述蒸发源装置采用上述权利要求1至6中任一所述的蒸发源装置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司;，未经京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司;许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320627187.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种镁还原罐
- 下一篇：一种立式真空镀膜装置
- 同类专利
- 专利分类
