[实用新型]一种加热提纯装置

权利要求书

1.一种加热提纯装置，包括提纯反应炉（1），其特征在于，所述提纯反应炉（1）顶部连接有原料供给桶（5），所述提纯反应炉（1）底部连接有用于使提纯反应炉（1）的材料浮游并移动的气体进口一（11），所述加热提纯装置还包括能使提纯反应炉（1）内不同区域温度分别达到设定数值范围的加热装置，所述提纯反应炉（1）上设置有用于在特定温度区域导出高纯度产物的产品收集口（16）和导出杂质的杂质收集口（17），所述提纯反应炉（1）顶部还设置有排气口（13）。

2.根据权利要求1所述的加热提纯装置，其特征在于，所述加热装置包括石墨加热体（41）和铜电极（42），所述石墨加热体（41）覆盖在反应炉外表面，所述铜电极（42）一端与石墨加热体（41）相连，另一端与电源相连。

3.根据权利要求1所述的加热提纯装置，其特征在于，所述加热装置包括高频线圈和高频电源，所述反应炉采用耐高温的金属材料制成，所述高频线圈环绕在反应炉外表面，所述高频线圈与高频电源相连。

4.根据权利要求1或2或3所述的加热提纯装置，其特征在于，所述提纯反应炉（1）底部还设置有用于向提纯反应炉（1）通入活性气体的气体进口二（12）。

5.根据权利要求1或2或3所述的加热提纯装置，其特征在于，所述提纯反应炉（1）内还设置有至少一个辅助浮游用气体喷射头（15），所述气体喷射头（15）上具有若干气体喷射口，上述辅助浮游用气体喷射头（15）通过管道分别与对应的气体进口三（14）连通。

6.根据权利要求1或2或3所述的加热提纯装置，其特征在于，所述气体进口上方设置水平覆盖提纯反应桶内腔的圆盘（8），上述圆盘（8）表面均匀分布有若干个气体喷射孔。

7.根据权利要求1或2或3所述的加热提纯装置，其特征在于，所述反应炉底部设置有回转式材料收集皿，所述反应炉底部具有供原料落下的出料口，所述回转式材料收集皿包括转盘（61）和能够带动转盘（61）转动的驱动电机（63），所述转盘（61）上具有若干个容纳槽，上述容纳槽内分别放置有材料收集皿，所述转盘（61）外侧设置有防护罩（62），上述防护罩（62）上具有用于取出材料收集皿的开口，所述转盘（61）转动后能够使其中一个材料收集皿正对反应炉底部的出料口，其余的材料收集皿中至少一个位于防护罩（62）的开口处。

8.根据权利要求1或2或3所述的加热提纯装置，其特征在于，所述原料供给桶（5）和提纯反应炉（1）之间还设置进料速度调节器（7），所述进料速度调节器（7）通过调节开口大小控制原料进入提纯反应炉（1）内腔的速度。