[实用新型]一种化学机械研磨垫有效
| 申请号： | 201320649958.4 | 申请日： | 2013-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN203542340U | 公开（公告）日： | 2014-04-16 |
| 发明（设计）人： | 唐强;马智勇 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/16 | 分类号： | B24B37/16 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械 研磨 | ||
1.一种化学机械研磨垫，其特征在于，所述化学机械研磨垫至少包括：
具有旋转中心的研磨垫本体，其由底层和表层两层构成；
设于所述表层内的、用于分布抛光液的若干沟槽，所述沟槽截面为若干以研磨垫本体的旋转中心为圆心的同心圆环；位于研磨垫中部的沟槽的横截面为直角U型；位于研磨垫边缘的沟槽的横截面为倒直角梯形。
2.根据权利要求1所述的化学机械研磨垫，其特征在于：所述位于研磨垫边缘、横截面为倒直角梯形的沟槽远离旋转中心的一侧为斜边。
3.根据权利要求1或2所述的化学机械研磨垫，其特征在于：所述位于研磨垫边缘的倒直角梯形的深度h1小于位于研磨垫中部的直角U型沟槽的深度h2。
4.根据权利要求3所述的化学机械研磨垫，其特征在于：所述倒直角梯形沟槽的深度h1为3～8密耳，上宽d1为6～15密耳，下宽d2为5～10密耳，斜边长L为5～12密耳。
5.根据权利要求3所述的化学机械研磨垫，其特征在于：所述直角U型沟槽的深度h1为5～10密耳，宽度d3为5～10密耳。
6.根据权利要求1或2所述的化学机械研磨垫，其特征在于：所述位于研磨垫边缘的倒直角梯形的深度h1大于位于研磨垫中部的直角U型沟槽的深度h2。
7.根据权利要求6所述的化学机械研磨垫，其特征在于：所述倒直角梯形沟槽的深度h1为5～10密耳，上宽d1为6～15密耳，下宽d2为5～10密耳，斜边长L为8～15密耳。
8.根据权利要求6所述的化学机械研磨垫，其特征在于：所述直角U型沟槽的深度h1为3～8密耳，宽度d3为5～10密耳。
9.根据权利要求1或2所述的化学机械研磨垫，其特征在于：所述位于研磨垫中部的直角U型沟槽为20～25条；所述位于研磨垫边缘的倒直角梯形沟槽为3～5条。
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