[实用新型]缺陷深度的射线检测装置

权利要求书

1.缺陷深度的射线检测装置，其特征在于，它包括：

放射源，其位于待检测物的第一表面侧，用于发射射线；

准直器，其设置在所述放射源的射线路径上；

显像单元，其位于所述待检测物的第二表面侧，用于接收经过该准直器且透射过所述待检测物的射线，以显示所述待检测物的缺陷在所述显像单元上的位置，所述待检测物的第一表面与第二表面相对；

所述放射源位于第一位置处发射出第一射线，所述第一射线通过该准直器后透射过所述待检测物在所述显像单元上形成第一缺陷位置，所述放射源位于第二位置处发射出第二射线，所述第二射线通过该准直器后透射过所述待检测物在所述显像单元上形成第二缺陷位置，所述放射源在所述第一位置处发出的第一射线垂直于所述待检测物的第一表面，所述放射源在所述第二位置处发出的第二射线相对于所述待检测物的第一表面倾斜，所述第一位置与所述第二位置在同一水平面上。

2.根据权利要求1所述的射线检测定位缺陷深度的装置，其特征在于，所述放射源为X射线。

3.根据权利要求1所述的射线检测定位缺陷深度的装置，其特征在于，所述待检测物的第一表面为平面。

4.根据权利要求1所述的射线检测定位缺陷深度的装置，其特征在于，所述待检测物的第二表面为平面。