[实用新型]一种掩模板有效
申请号: | 201320676061.0 | 申请日: | 2013-10-30 |
公开(公告)号: | CN203569178U | 公开(公告)日: | 2014-04-30 |
发明(设计)人: | 魏志凌;高小平;潘世珎;张炜平 | 申请(专利权)人: | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 模板 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种掩模板,具体涉及一种OLED蒸镀用的掩模板。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode;OLED)显示器具有自主发光、低电压直流驱动、全固化、视角宽、颜色丰富等一系列的优点,与液晶显示器相比,OLED显示器不需要背光源,视角大,功率低,其响应速度可达到液晶显示器的1000倍,其制造成本却低于同等分辨率的液晶显示器。因此,OLED显示器具有广阔的应用前景,逐渐成为未来20年成长最快的新型显示技术。
OLED结构中的有机层材料的制作需要用到蒸镀用的掩模板,传统通过蚀刻工艺制作掩模板,蒸镀之前需要将掩模板拉网固定到掩模框上,拉网固定之后掩模板具有一定的张力。掩模板蒸镀孔的截面示意图如图1所示,1为掩模板的ITO面(即与沉积基板接触的一面),2为掩模板的蒸镀面(即面向蒸镀源的一面),11为掩模板的蒸镀孔,蒸镀孔11的截面为碗状,由于蒸镀孔11的边缘比较薄,掩模板具有一定的张力之后蒸镀孔的边缘容易翘起,如图1中的翘起部分12所示,蒸镀孔边缘翘起的部分12在蒸镀过程中会划伤沉积基板,从而影响显示器的质量,而且通过蚀刻工艺制作的掩模板蒸镀孔11的尺寸不好控制。
本实用新型主要是针对以上问题提出一种掩模板及其制作方法,较好的解决以上所述问题。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型的主要目的在于提供一种掩模板及其制作方法,使在蒸镀过程中尽量减少蒸镀孔壁对蒸镀材料的遮挡,并且可以防止掩模板蒸镀孔边缘翘起划伤沉积基板。
本实用新型提供一种掩模板,包括掩模板本体及形成在所述掩模板本体上的蒸镀孔,所述蒸镀孔贯穿所述掩模板本体,所述掩模板包括蒸镀面和ITO面,其特征在于:所述蒸镀孔在所述ITO面设有凹槽,在所述蒸镀孔中心轴线所在的截面上,所述蒸镀面的蒸镀孔的边缘线呈碗状。
进一步地,蒸镀面的所述蒸镀孔的孔壁与掩模板本体的板面呈30°~60°夹角。
进一步地,ITO面的凹槽的侧壁与掩模板本体的板面呈60°~90°夹角。
进一步地,掩模板蒸镀面的厚度为10~50μm。
进一步地,凹槽的深度为2~30μm。
进一步地,掩模板的总厚度为12~80μm。
本实用新型还提供一种制作上述所述掩模板的方法,包括蚀刻步骤和激光半刻步骤,其特征在于:
金属基板通过所述蚀刻步骤在与所述蒸镀孔对应的区域形成蒸镀面开口,在所述蒸镀面开口中心轴线所在的截面上,所述蒸镀面开口的边缘线呈碗状;
所述激光半刻步骤在所述ITO面与所述蒸镀面开口对应的周边区域进行激光半刻形成所述的凹槽,所述凹槽与所述蒸镀面开口联通形成贯穿所述掩模板本体的所述蒸镀孔。
进一步地,激光半刻步骤中激光头的激光发射路线与掩模板本体板面之间的夹角调整范围为60°~90°。
进一步地,激光半刻步骤中半刻的深度为2~30μm。
进一步地,金属基板的厚度为12~80μm。
进一步地,蚀刻步骤形成的蒸镀面开口为贯穿所述掩模板本体的通孔或为盲孔。
本实用新型的有益效果在于,掩模板上蒸镀孔的中心轴线所在的截面上,所述蒸镀面的蒸镀孔的边缘线呈碗状,蒸镀面的蒸镀孔的孔壁与掩模板本体的板面呈30°~60°夹角,可以减小蒸镀孔的孔壁对蒸镀材料的遮挡,同时蒸镀孔ITO面的凹槽可以起到防止刮伤沉积基板,从而提高显示器的质量。
本实用新型附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本实用新型的实践了解到。
附图说明
本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
图1所示为现有技术中掩模板蒸镀孔的截面示意图;
图2所示为本实用新型掩模板ITO面的平面结构示意图;
图3所示为图2中沿A-A方向的截面示意图;
图4所示为图3中30部分的结构放大示意图;
图5所示为图3中30部分的另一种结构放大示意图;
图6所示为本实用新型掩模板整体平面结构示意图;
图7和图8所示为图6中60部分放大示意图;
图9所示为本实用新型完成贴膜步骤的截面示意图;
图10所示为本实用新型完成曝光的截面示意图;
图11所示为本实用新型完成显影的截面示意图;
图12所示为本实用新型完成蚀刻步骤的截面示意图;
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