[实用新型]一种X光高温高压催化反应炉

说明书

技术领域

本实用新型涉及催化炉，特别是指一种X光高温高压催化反应炉。

背景技术

目前国内大多数X光原位催化炉采用高分子薄膜材料作为窗口材料，但因高分子薄膜材料耐压及耐高温性能不佳，所以高分子薄膜作为窗口材料的X光催化反应炉，只能满足部分要求，现有的X光原位催化炉其结构如图3所示，炉上盖2、炉腔1、密封胶圈25、高分子薄膜26和密封法兰27，通过螺栓连接成一密封腔体。X光在低能区间，很容易被材料吸收，导致射线无法透入，故采用高分子薄膜材料作为窗口材料，但因高分子材料耐压及耐高温性能不佳（260℃可长期使用，400℃可瞬时使用，最高耐压为0.3MPa）。所以，高分子薄膜作为窗口材料的X光催化反应炉，对反应气体没有限制但催化反应温度不高于500℃，压力不超过0.1MPa。

目前除了高分子薄膜，还可使用纯铍片镀纳米级Al层作为窗口材料使用，但铍片价格高昂而且氧化铍粉末是剧毒物质，铍片在催化物与催化气体的作用下会很快污染，导致X光无法透入，严重时会发生铍片破裂等严重事故。

实用新型内容

本实用新型提出一种X光高温高压催化反应炉，可用于加热高温高压或有毒可燃还原性气体，并且加热效率高、加热气体温度均匀、结构简单的催化反应炉。

本实用新型的技术方案是这样实现的：

一种X光高温高压催化反应炉，包括：气体进口通道、炉上盖、炉腔、底座和气体出口通道，气体进口通道通过连通孔与炉腔导通，炉腔内侧设置有屏蔽层，外壁上设置有窗口和铍窗法兰，窗口和铍窗法兰之间设置有保护层，保护层包括位于外侧的镀铝铍片层和位于内侧的高分子薄膜层，屏蔽层包括与保护层对应设置的铍片。

优选的，屏蔽层为不锈钢屏蔽层。

优选的，气体进口通道的外侧均匀地连接有至少一个气体进口支管。

优选的，炉上盖设置有至少一个开口，开口与气体进口支管连通。

优选的，屏蔽层包括第一屏蔽层和第二屏蔽层。

优选的，炉腔内设置有加热室，第二屏蔽层设置在加热室的外侧，第一屏蔽层设置在第二屏蔽层外侧。

优选的，第二屏蔽层设置有第二匀气孔，加热室设置有加热室入口。

优选的，第一屏蔽层与炉腔形成第一流通室，第二屏蔽层与第一屏蔽层形成第二流通室，第二屏蔽层与加热室形成第三流通室。

本实用新型的X光高温高压催化反应炉具有加热室、加热器和屏蔽层，加热室为筒状以确保规定的空间，屏蔽层将加热室包围在其内部，因此在对样品进行催化时，从气体入口通道进入的反应气体可以均匀的通过屏蔽层和加热室后，再从气体出口通道排出，由此进行催化过程。此种进气方式可以使反应气体更加均匀同时降低保护层处及炉腔外层的温度，同时保护操作者不被烫伤。此外，铍窗法兰、镀铝铍片层、高分子薄膜层、胶圈、炉腔及炉上盖由螺栓连接形成一密封腔体，由于高分子薄膜层设置在镀铝铍片内侧，可将催化气体与镀铝铍片隔离，因此高分子薄膜层可以保护镀铝铍片不被催化气体及催化物污染，镀铝铍片材料性能优异可以承受1MPa的反应压力并且低能X光可以顺利通过照射到催化物。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型一种X光高温高压催化反应炉的结构示意图；

图2为图1所示X光高温高压催化反应炉的剖面图；

图3为现有技术的结构示意图。

图中：

1、炉腔；2、炉上盖；3、气体进口通道；4、铍片法兰；5、保护层；6、铍片；7、连通口；8、底座；9、安装柱；10、样品托；11、加热器；12、第二屏蔽层；13、第一屏蔽层；14、气体入口；15、气体支管；16、加热室；17、开口；18、气体出口；19、第一匀气孔；20、样品托入口；21、气体出口通道；22、加热室入口；23、第二匀气孔；24、窗口；25、密封胶圈；26、高分子薄膜；27、密封法兰。

具体实施方式