[实用新型]CFG桩复合地基褥垫层有效

专利信息
申请号: 201320683070.2 申请日: 2013-10-30
公开(公告)号: CN203546743U 公开(公告)日: 2014-04-16
发明(设计)人: 李继生;王凌宇 申请(专利权)人: 上海勘测设计研究院
主分类号: E02D27/12 分类号: E02D27/12;E02D27/52
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 钟玉敏
地址: 200434 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: cfg 复合 地基 褥垫
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及CFG桩复合地基处理工程,尤其涉及一种CFG桩复合地基褥垫层。

背景技术

为了使CFG桩复合地基中桩体和桩间土共同承担建筑物传给基础的荷载,应在桩顶与基础之间设置褥垫层。褥垫层的受力机理是在建筑物基础范围内的垫层受到不均匀压应力的作用,桩顶应力较大,桩间土应力较小,随着荷载增加,首先是在桩顶范围内的垫层可能出现塑性区,继而桩与桩间土间产生较大位移,桩体刺入到垫层中,桩顶的垫层向桩间土转移,桩间土被挤密而提高承载力,将桩上部分荷载向桩间土转移。

褥垫层的主要作用有:(1)保证桩、土共同承担荷载;(2)调整桩、土荷载分担比;(3)减小基础底面的应力集中;(4)调整桩土水平荷载的分担。

根据桩顶刺入褥垫层的条件,若要提高褥垫层的承载力和减小沉降变形方面来看,褥垫层材料宜选用粒径较大的碎石,但从有利于桩顶刺入褥垫层材料调整流动这方面来看,褥垫层宜选用中细砂。综合以上两方面的因素,结合大量的工程实践,褥垫层的材料宜采用中砂、粗砂、级配碎石。但是采用中砂、粗砂、级配碎石散粒材料做的褥垫层具有强透水性,对水工挡水建筑物的基础防渗不利。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题就是针对现有技术存在的上述不足,提供一种CFG桩复合地基褥垫层,用于解决现有技术中的问题。

为实现上述目的及其他相关目的,本实用新型提供一种CFG桩复合地基褥垫层,所述建筑物基础下方设有群桩,基础与桩体之间设有褥垫层,褥垫层位于相邻桩体之间的区域填充有粘性土,所述褥垫层位于桩体顶端的区域填充有水泥土。

优选地,所述第一褥垫层区域的底面外径大于所述桩体的顶面外径。

优选地,所述褥垫层厚度为10-30cm。

优选地,所述基础为水工挡水建筑物基础。

通过以上技术方案,本实用新型相较于现有技术具有以下技术效果:本实用新型在挡水水工建筑物地基加固处理时,采用抗渗性较好的复合褥垫层替代传统的砂石料褥垫层,既可以满足地基防渗要求,又可以发挥复合地基承载作用,为工程建设节省投资。

附图说明

图1为本实用新型较佳实施例的结构示意图。

元件标号说明:

1                      建筑物基础

2                      桩体

31                     第一褥垫层区域

32                     第二褥垫层区域

具体实施方式

以下由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式,熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。

请参阅图1。须知,本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等,均仅用以配合说明书所揭示的内容,以供熟悉此技术的人士了解与阅读,并非用以限定本实用新型可实施的限定条件,故不具技术上的实质意义,任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整,在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下,均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时,本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语,亦仅为便于叙述的明了,而非用以限定本实用新型可实施的范围,其相对关系的改变或调整,在无实质变更技术内容下,当亦视为本实用新型可实施的范畴。

参阅图1所示,显示为本实用新型CFG桩复合地基褥垫层较佳实施例的结构示意图,应用于水工挡水建筑物,在建筑物基础1下方设有群桩,建筑物基础1与桩体2之间设有褥垫层,褥垫层厚度为10-30cm。

褥垫层位于相邻桩体之间的区域构成第二褥垫层区域32,第二褥垫层区域32保留原状土,即粘性土;褥垫层位于桩体顶端的区域构成第一褥垫层区域31,第一褥垫层区域31填充有水泥土,并且第一褥垫层区域31的底面外径大于桩体的顶面外径。

综上所述,本实用新型在挡水水工建筑物地基加固处理时,采用抗渗性较好的复合褥垫层替代传统的砂石料褥垫层,既可以满足地基防渗要求,又可以发挥复合地基承载作用,为工程建设节省投资。所以,本实用新型有效克服了现有技术中的种种缺点而具高度产业利用价值。

上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效,而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下,对上述实施例进行修饰或改变。因此,举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变,仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。

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