[实用新型]一种扁平光面物体双面自动检测装置有效

专利信息
申请号: 201320692791.X 申请日: 2013-11-04
公开(公告)号: CN204421855U 公开(公告)日: 2015-06-24
发明(设计)人: 古乐野;郭玉峰;何明;王程成;徐岷;周建栋 申请(专利权)人: 中国印钞造币总公司;中钞长城金融设备控股有限公司;上海造币有限公司;深圳市中钞科信金融科技有限公司
主分类号: G01B11/30 分类号: G01B11/30
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摘要:
搜索关键词: 一种 扁平 光面 物体 双面 自动检测 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种扁平光面物体表面质量检测装置,尤其涉及一种扁平光面物体双面自动检测装置,属于检测设备技术领域。

背景技术

现有的扁平光面物体自动检测装置均采用正、背面分开检测的方式进行检测,对于正背面同时检测的装置,高反射面的表面特征难以获得,工作效率较低,外廓尺寸大,往往需要配备翻面机构,因此结构较为复杂,容易出现故障。

实用新型内容

本实用新型针对以上现有技术中存在的缺点,提供一种可以结构简单、尺寸较小且可以减少扁平光面物体的传送损伤的扁平光面物体双面自动检测装置,包括承载扁平光面物体的检测面、光源和设置有相机镜头的线阵相机,所述检测面与相机处于同一平面,所述检测面上方和下方分别固定设置有正面和背面菲涅尔透镜,所述正面菲涅尔透镜上方及背面菲涅尔透镜下方分别固定设有光源,所述光源与正面和背面菲涅尔透镜之间分别设置散射片,所述正面和背面菲涅尔透镜与检测面之间分别斜置有一半反半透镜;所述光源发射的光束一部分透过正面和背面菲涅尔透镜照射到检测面的正面及反面,照射到检测面的光线反射到半反半透镜上入反射到线阵相机。

优选地,所述线阵相机设有CCD,所述CCD方向与检测面垂直。

优选地,所述LED光源照射到检测面上的位置为菲涅尔透镜焦点位置。

优选地,所述检测面设有一水平方向狭缝,狭缝宽3~10毫米,所述菲涅尔透镜焦点通过狭缝。

优选地,所述半反半透镜与检测面呈30~50度。

优选地,所述检测面为带有狭缝的陶瓷板或者蓝宝石玻璃。

优选地,所述光源为LED光源。

优选地,所述散射片为圆形,所述散射片直径为20~40mm。

优选地,所述光源中心对准所述菲涅尔透镜中心,且光源与菲涅尔透镜相互平行。

本实用新型的扁平光面物体自动检测装置,能在扁平光面物体等高反射物体快速通过时,利用线阵相机同时拍摄到清晰的正反两面表面特征,采用LED光源,不受外界环境光的影响且功耗较低,只采用一个线阵相机拍摄正反两面,结构简单。

附图说明

图1是本实用新型扁平光面物体双面自动检测装置一实施例结构示意图。

具体实施方式

实施例

如图一所示,为本实用新型扁平光面物体双面自动检测装置一实施例结构示意图,包括LED光源1、散射片2、菲涅尔透镜3、半反半透镜4、承载扁平光面物体的检测面5、设置有相机镜头6的线阵相机7,所述检测面5与线阵相机7处于同一平面,所述检测面5上方和下方分别固定设置有正面和背面菲涅尔透镜3,所述正面菲涅尔透镜3上方及背面菲涅尔透镜3下方分别固定设有LED光源1,所述LED光源1中心对准所述菲涅尔透镜3中心,且相互平行,所述LED光源1与正面和背面菲涅尔透镜3之间分别设置散射片2,所述散射片2为圆形,直径为20~40mm;所述正面和背面菲涅尔透镜3与检测面5之间分别斜置有一半反半透镜4;所述LED光源1发射的光束一部分透过正面和背面菲涅尔透镜3照射到检测面5的正面及反面,所述检测面5设有一水平方向狭缝(未标示),狭缝宽3~10毫米(若其他材料透光材料则不需要),所述菲涅尔透镜3焦点通过狭缝,照射到检测面5的光线反射到半反半透镜4上后入 射线阵相机内7;所述线阵相机设有CCD,所述CCD方向与检测面5垂直;所述LED光源1照射到检测面5上的位置为菲涅尔透镜焦点位置。所述半反半透镜4与检测面5呈30~50度。

本实施例中,所述检测面5为带有狭缝的陶瓷板,亦可使用其他类似材料如蓝宝石玻璃等,所述菲涅尔透镜3也可为普通透镜,但普通透镜效果不好且占用较多位置。

原理说明:当LED光源1透过散射片2与菲涅尔透镜3时发出均匀亮光斑照射到检测面5上,所述LED光源1、正面和背面菲涅尔透镜3与检测面5呈相应角度分布,当扁平光面物体平行于检测面5滑过时,扁平光面物体的正反两面表面特征线同时成像于阵相机7中。

本实用新型的扁平光面物体自动检测装置,能在扁平光面物体等高反射物体快速通过时,利用线阵相机7同时拍摄到清晰的正反两面表面特征,采用LED光源1,不受外界环境光的影响且功耗较低,只采用一个线阵相机7拍摄正反两面,结构简单。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

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