[实用新型]硅片清洗机溢流纯水循环系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及光伏行业的领域，尤其涉及硅片清洗设备。

背景技术

硅片清洗机器共有有10个水槽，分别是待洗槽、超声清洗槽、超声漂洗槽。在清洗硅片时需将各槽温度控制在30~50℃之间，因为温度升高时非离子表面活性剂逃离水的趋势增强，吸附量增大。温度对非离子表面活性剂的去污能力的影响是明显的，当温度接近于浊点时，清洗效果最好。但是在清洗过程中硅片经过清洗剂超声清洗后的污浊物质会产生大量泡沫，在经过漂洗槽是必须打开溢流开关将泡沫冲出水槽排至下水渠。由于打开溢流以后进入清洗槽内的纯水没有进过加热处理会影四个漂洗槽内清洗的水温，会直接影响到硅片清洗出来的效果。

发明内容

本实用新型的目的是为了克服现有技术的不足，提供一种硅片清洗机溢流纯水循环系统，能控制硅片清洗槽内的清洗温度，节约纯水资源。

本实用新型的目的是这样实现的：硅片清洗机溢流纯水循环系统，包括四个漂洗槽，四个漂洗槽的上端由高到低依次排列，在四个漂洗槽的下方设置同一蓄水槽，蓄水槽内设置加热管和水泵；在四个漂洗槽中上端最低的漂洗槽的一侧竖向设置第一循环水道，第一循环水道的上端设置进水口，上端最低的漂洗槽的水溢流从进水口流入至第一循环水道，第一循环水道的出水口与蓄水槽连通；四个漂洗槽中上端最高的漂洗槽的一侧竖向设置第二循环水道，第二循环水道的进水口与所述水泵的输出端连接，第二循环水道的上端设置出水口，第二循环水道的水从出水口流入上端最高的漂洗槽内。

本实用新型通过在清洗机内部增加一个蓄水槽，将溢流水全部导流至蓄水槽内，并在蓄水槽内安装加热管，在打开溢流以后可以将蓄水槽内的水进行循环利用，并且漂洗槽冲出来的泡沫可以从蓄水槽顶部直接溢出不会再次流入漂洗槽。

现在加热蓄水槽内的纯水循环利用，既节约了用水，又更好的控制了溢流进水的水温。从生产方面更好的控制并降低了脏片出现的几率，提高了硅片清洗的效果。

附图说明

图1为本实用新型的一种结构示意图。

具体实施方式

如图1所示，硅片清洗机溢流纯水循环系统，主要包括第一漂洗槽1、第二漂洗槽2、第三漂洗槽3、第四漂洗槽4，第一漂洗槽1、第二漂洗槽2、第三漂洗槽3、第四漂洗槽4的上端由高到低依次排列，在第一漂洗槽1、第二漂洗槽2、第三漂洗槽3、第四漂洗槽4的下方设置同一蓄水槽7，蓄水槽7内设置加热管6和水泵8。在第四漂洗槽4的一侧竖向设置第一循环水道5，第一循环水道5的上端设置进水口5-1，第四漂洗槽4的水溢流从进水口5-1流入至第一循环水道5，第一循环水道5的出水口5-2与蓄水槽7连通。第一漂洗槽1的一侧竖向设置第二循环水道9，第二循环水道9的进水口9-1与水泵8的输出端连接，第二循环水道9的上端设置出水口9-2，第二循环水道9的水从出水口9-2流入第一漂洗槽1内。