[实用新型]一种制备AZO透明导电膜的磁控溅射装置有效
申请号: | 201320700145.3 | 申请日: | 2013-11-08 |
公开(公告)号: | CN203582960U | 公开(公告)日: | 2014-05-07 |
发明(设计)人: | 王芸;马立云;崔介东 | 申请(专利权)人: | 蚌埠玻璃工业设计研究院;中国建材国际工程集团有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/08 |
代理公司: | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 | 代理人: | 倪波 |
地址: | 233010 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 制备 azo 透明 导电 磁控溅射 装置 | ||
1.一种制备AZO透明导电膜的磁控溅射装置,包括真空室(1),气体流量控制器(14),真空泵组 (15),真空室(1)内设有衬底板(4),衬底加热器(5),AZO靶材(8),不锈钢基底(9)和绝缘板(10),其特征在于,所述真空室(1)内设有电磁线圈(2),电磁线圈(2)外接线圈电源(3),所述衬底板(4),AZO靶材(8),不锈钢基底(9)和绝缘板(10)均设置于所述电磁线圈(2)内,所述电磁线圈(2)内还设有外接加热电源(11)、电位电源(12)的钨丝(6),钨丝(6)与电位电源(12)的负极相连,并连接到接地铜板(16),使钨丝(6)的电位为负,与接地的真空室(1)之间形成电场。
2.根据权利要求1所述的一种制备AZO透明导电膜的磁控溅射装置,其特征在于,所述不锈钢基底(9)通过导线连接基底电源(13)的负极并与接地铜板(16)相连,使不锈钢基底(9) 的电位为负。
3.根据权利要求1所述的一种制备AZO透明导电膜的磁控溅射装置,其特征在于,真空室(1)内设有钨丝支架(7),钨丝(6)安装在钨丝支架(7)上。
4.根据权利要求1所述的一种制备AZO透明导电膜的磁控溅射装置,其特征在于,所述电磁线圈的匝数为50~80匝。
5.根据权利要求1所述的一种制备AZO透明导电膜的磁控溅射装置,其特征在于,所述钨丝设置于AZO靶材上方3~5cm处。
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