[实用新型]一种反渗透膜超声波清洗装置有效

专利信息
申请号: 201320707467.0 申请日: 2013-11-11
公开(公告)号: CN203577650U 公开(公告)日: 2014-05-07
发明(设计)人: 司洪亮;温建志;袁香英;柴惠臣;杨涛 申请(专利权)人: 济南沃特佳科技有限公司
主分类号: B01D65/02 分类号: B01D65/02
代理公司: 山东众成仁和律师事务所 37229 代理人: 牟迅
地址: 250000 山东省济南*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 反渗透 超声波 清洗 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种反渗透膜清洗装置,尤其涉及一种反渗透膜超声波清洗装置。

背景技术

反渗透膜是一项高新膜分离技术,反渗透膜孔径小至纳米级,大都小于10A,在一定的压力下,水分子可以通过膜表面,而无机盐、重金属离子、有机物、胶体、细菌、病毒等杂质无法通过,从而达到去除杂质的目的,但同时反渗透膜上会残留很多的污垢杂质,这时就需要对反渗透膜进行清洗。传统的反渗透膜的清洗方法分为在线清洗和离线清洗2种。

当反渗透系统参数出现如下变化,就要对反渗透膜做清洗:系统的段间压差一段压差≤0.2Mpa,二段压差≤0.1Mpa;在系统运行参数不变的情况下,通过温度校正系统的产水量恢复设计产水量的85%以上;产水脱盐率变化不超过5%,此时需要进行在线清洗。

在线清洗时,对于不同位置的反渗透膜的针对性差。由于一根膜壳中通常不是一根膜元件,所以这些膜元件的污染情况也存在差别,当使用同样浓度的清洗液去清洗不同污染情形的膜时,必然造成有的膜清洗过度,而有的膜清洗不足的情形,因此清洗效果差,而且还容易形成交叉污染。此时就需要进行离线清洗。

传统的离线清洗方法是主要是配制清洗溶液,并将其打入离线清洗机膜壳内达到清洗干净的效果。但是,清洗时间长,使用清洗药剂量多、清洗效率差、对一些污染结垢特别严重的膜清洗不彻底。

发明内容

为了解决现有技术中反渗透膜清洗时间长,使用清洗药剂量多、清洗效率差、对一些污染结垢特别严重的膜清洗不彻底的技术问题,本实用新型提供一种反渗透膜超声波清洗装置,本技术在传统膜清洗技术的基础上,采用超声波发生装置进行膜清洗,同时配置少量清洗药液辅助其工作,使反渗透膜的清洗可以不用在离线清洗机内进行,并且减少药剂的使用量,提高清洗效率,并且可以对污染特别严重的反渗透膜进行清洗至正常使用。

一种反渗透膜超声波清洗装置,包括壳体1和超声波反应器7,壳体1内设有用以承托待清洗膜元件6的横板3,所述壳体1、横板3限定二空腔,横板3的上部为清洗空腔9、下部为超声波发生空腔10,清洗空腔9设有与之连通的排污口5,超声波反应器7设于超声波发生空腔10内,其特征在于,所述洗空腔9内壁被内衬层2覆盖,超声波反应器7与横板3下部的换能器11通过电缆连接。

进一步的,所述横板3下部的换能器11至少为一个。

进一步的,所述内衬层2为橡胶、钢化玻璃、聚氨脂的任意一种。     进一步的,所述内衬层2厚度为3毫米。

进一步的,所述超声波反应器7连接于壳体1底部。

进一步的,所述排污口5靠近横板3。

 进一步的,所述清洗空腔9与超声波发生空腔10的容积比为2:3。

通过以上技术方案的实施,本实用新型使得反渗透膜的清洗可以不用在离线清洗机内进行,并且减少药剂的使用量,提高清洗效率,并且可以对污染特别严重的反渗透膜进行清洗至正常使用。

附图说明

附图1为本实用新型反渗透膜超声波清洗装置的结构示意图。

附图2为附图1的俯视图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的具体实施做出详细的说明。

如图1、图2所示,本实用新型包括壳体1和超声波反应器7,壳体1内设有用以承托待清洗膜元件6的横板3,所述壳体1、横板3限定二空腔,横板3的上部为清洗空腔9、下部为超声波发生空腔10,清洗空腔9设有与之连通的排污口5,排污口5靠近横板3,超声波反应器7设于超声波发生空腔10内并连接于壳体1底部,所述洗空腔9内壁被内衬层2覆盖,内衬层2厚度为3毫米,材料为橡胶、钢化玻璃、聚氨脂的任意一种,超声波反应器7与横板3下部的换能器11通过电缆连接。

使用时,将反渗透膜提前放置于横板3上,清洗空腔9内存放有清洗液,超声波发生器7将工频电转变成高频电信号,通过电缆输送到换能器11上,通过换能器转换成了交频机械振荡而传播到清洗液中,强力的超声波在清洗液中以疏密相间的形式向反渗透膜辐射,产生“空化”现象,即在清洗液中产生“气泡”形式,产生破裂现象。当“空化”在达到被反渗透膜表面破裂的瞬间,产生远超过1000个大气压力的冲击力,致使反渗透膜的面、孔、隙中的污垢被分散、破裂及剥落,使反渗透膜达到净化清洁的效果,实现清洁目的的清洗液通过排污口5排出。

本实用新型不限于对反渗透膜的清洗,同样可以应用于其他膜元件的清洗。

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