[实用新型]匀胶装置和取向膜涂覆装置有效
| 申请号： | 201320718037.9 | 申请日： | 2013-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN203643722U | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 王平;占飞;金相旭;左长云;聂慧 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;B05C11/10;B05C11/04 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 230011 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 装置 取向 膜涂覆 | ||
【权利要求书】：
1.一种匀胶装置，其特征在于，包括：匀胶辊、与所述匀胶辊的旋转轴平行的刮刀、固定所述刮刀的固定支架和照射所述匀胶辊的表面的光源，所述光源固定于所述固定支架上。
2.根据权利要求1所述的匀胶装置，其特征在于，所述光源位于所述固定支架的下方临近所述匀胶辊的位置。
3.根据权利要求1所述的匀胶装置，其特征在于，所述光源包括：至少一个由一个以上发光二极管组成的灯条。
4.根据权利要求3所述的匀胶装置，其特征在于，所述灯条与所述刮刀平行。
5.根据权利要求3所述的匀胶装置，其特征在于，所述灯条的长度与所述刮刀的长度相等。
6.根据权利要求3所述的匀胶装置，其特征在于，所述光源还包括：保护壳，所述保护壳设置于所述灯条的上方，所述保护壳与所述固定支架固定。
7.根据权利要求6所述的匀胶装置，其特征在于，所述光源还包括：反射结构，所述反射结构设置于所述保护壳内。
8.根据权利要求7所述的匀胶装置，其特征在于，所述反射结构包括：锡箔纸。
9.根据权利要求1至8中任一所述的匀胶装置，其特征在于，还包括：控制所述光源发光或不发光的控制单元，所述控制单元与所述光源连接。
10.一种取向膜涂覆装置，其特征在于，包括：匀胶装置，所述匀胶装置采用权利要求1至9中任一所述的匀胶装置。
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