[实用新型]电子束连续熔炼去除多晶硅中氧杂质的装置有效
| 申请号： | 201320745518.9 | 申请日： | 2013-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN203699921U | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | 王登科;姜大川;安广野;郭校亮;谭毅 | 申请（专利权）人： | 青岛隆盛晶硅科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/037 | 分类号： | C01B33/037 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266234 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电子束 连续 熔炼 去除 多晶 硅中氧 杂质 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种电子束连续熔炼去除多晶硅中氧杂质的装置，包括炉体，其特征在于炉体内上部与上炉盖连通安装有送料机构和电子枪，位于炉体内的送料机构的送料口下方设置有熔炼坩埚，该熔炼坩埚底部设置有翻转机构，翻转机构与下炉盖相通连，位于炉体内翻转机构一侧安置有装载坩埚。
2.根据权利要求1所述的电子束连续熔炼去除多晶硅中氧杂质的装置，其特征在于熔炼坩埚为带有凹形熔化池的水冷铜坩埚。
3.根据权利要求1所述的电子束连续熔炼去除多晶硅中氧杂质的装置，其特征在于装载坩埚为水冷铜坩埚。
4.根据权利要求1所述的电子束连续熔炼去除多晶硅中氧杂质的装置，其特征在于装载坩埚为铸铁模具。
5.根据权利要求4所述的电子束连续熔炼去除多晶硅中氧杂质的装置，其特征在于铸铁模具为分体式结构，四周与底部通过连接件连接而成。
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