[实用新型]一种TCT细胞制片机的自动掉片装置有效

专利信息
申请号: 201320748368.7 申请日: 2013-11-25
公开(公告)号: CN203551357U 公开(公告)日: 2014-04-16
发明(设计)人: 高志帆;王俊杰;廖乘胜;曾立波;吴琼水 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: G01N1/28 分类号: G01N1/28
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 张火春;王汛琳
地址: 430072 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 tct 细胞 制片 自动 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及细胞涂片的制造设备,尤其是涉及一种TCT细胞制片机的自动掉片装置。

背景技术

在TCT制片机细胞转印过程结束之后,需要将玻片从玻片架上卸载下来,供后续染色、阅片等步骤使用。最初的TCT细胞制片机,需要操作者手动从玻片架中取下玻片,这样既浪费人力,又容易对做好的细胞玻片造成污染或破坏。针对这个问题,后来的TCT细胞制片机大都开始配备自动卸片装置,但是这些装置基本上都需要在转印过程结束之后,通过将之前水平放置的玻片架旋转至竖直状态,随即松开玻片夹持装置,使玻片在自身重力作用下从玻片架中掉落,然后驱动玻片架原路返回初始水平位置,这种方法需要频繁转动玻片架,很难保证玻片架每次回水平位置的位置精度,重复性差,影响之后制片的转印效果。

实用新型内容

为了解决现有技术所存在的问题,本实用新型主要是提供了一种TCT细胞制片机的自动掉片装置。 

本实用新型所采用的技术方案是:一种TCT细胞制片机的自动掉片装置,其特征在于:它包括挡板、旋转限位块、旋转导向块、旋转块和玻片杯,所述的旋转块侧面伸出旋转轴,旋转轴外侧紧密配合两个轴承,轴承外圈套有旋转轴承座,旋转轴承座固定在挡板上;所述的旋转导向块固定在挡板上,用于保持旋转块水平的旋转限位块固定在旋转导向块上,旋转导向块的导轨与玻片滑动接触;玻片杯固定在挡板上且位于旋转块的下方。

所述的旋转块中间开有能使玻片滑动的凹槽。

所述的旋转限位块上还设有一用于使旋转块复位的弹性元件。

本实用新型结构新颖,无需玻片架的参与,即可完成玻片的自动卸载,有效避免了频繁转动玻片架对后面进行的其它样本制片过程的影响;使用该自动掉片机构,使得玻片卸载过程自动进行,无需人工参与,在节省人力成本的同时,也有效避免了手工取下玻片可能造成的玻片污染或破坏。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。

图1是本实用新型的结构图;

图2是本实用新型的顶视图;

图3-5是本实用新型的动作过程演示图。

图中:1—挡板、2—旋转限位块、3—旋转导向块、4—玻片杯、5—玻片杯座、6—弹性元件、7—旋转轴承座、8—玻片、9—旋转块、10—玻片夹、11—操作杆、12—中轴线、13—中心线、14—旋转轴、15—轴承。

具体实施方式

下面结合参考附图进一步描述本技术方案,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件,但该描述仅用于解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。

本实施例使用2个弹簧作为弹性元件6这并不是对本实用新型的限定,事实上,本实用新型可以根据旋转块9的大小和材质,根据需要具体设置。

如图1、图2所示,本实用新型所采用的技术方案是:一种TCT细胞制片机的自动掉片装置,包括挡板1、旋转限位块2、旋转导向块3、旋转块9和玻片杯5,所述的旋转块9侧面伸出旋转轴14,旋转轴14外侧紧密配合两个轴承15,轴承15外圈套有旋转轴承座7,旋转轴承座7固定在挡板1上;所述的旋转导向块3固定在挡板1上,用于保持旋转块9水平的旋转限位块2固定在旋转导向块3上,旋转导向块3的导轨与玻片8滑动接触;玻片杯5固定在挡板1上且位于旋转块9的下方。

所述的旋转块9中间开有能使玻片8滑动的凹槽。

所述的旋转限位块2上还设有一用于使旋转块9复位的弹簧6。

如图3所示,细胞转印过程结束之后,玻片8位于玻片夹10槽内,操作杆11位于玻片夹10右侧;首先驱动操作杆绕着中轴线12逆时针旋转至图4所示位置,在这个过程中,操作杆头部将玻片8推至旋转块9玻片凹槽内;然后,驱动操作杆沿着中心线13向旋转块9方向移动,与旋转块9底面接触之后,带动其逆时针旋转至如图5所示的竖直位置,此时旋转块9上表面顶紧旋转限位块2右边沿,旋转块9左端脱离旋转导向块3,两弹簧6压紧,玻片8脱离旋转块9及旋转导向块3的束缚,因自身重力作用向下掉落至玻片杯4中;最后,驱动操作杆沿中心线13原路返回,旋转块9在弹簧6的推力及自身重力作用下回初始位置,整个自动掉片过程结束。

以上仅为本实用新型的较佳实施例而已,并非用于限定本实用新型的保护范围,因此,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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