[实用新型]一种半导体晶圆加工用胶带有效
申请号: | 201320791503.6 | 申请日: | 2013-12-03 |
公开(公告)号: | CN203487078U | 公开(公告)日: | 2014-03-19 |
发明(设计)人: | 王红 | 申请(专利权)人: | 王红 |
主分类号: | C09J7/02 | 分类号: | C09J7/02 |
代理公司: | 小松专利事务所 11132 | 代理人: | 洪善信 |
地址: | 150018 黑龙江*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体 晶圆加 工用 胶带 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种半导体晶圆加工用胶带。
背景技术
胶带的种类繁多,用途很广,但是普遍结构单一,有的不方便用于电子面板方面,厚度较厚,生产复杂。
实用新型内容
本实用新型克服上述缺陷,提供一种半导体晶圆加工用胶带。
技术方案:
一种半导体晶圆加工用胶带,所述胶带包括基材、粘结剂和粘结膜,所述粘结膜通过粘结剂与基材连接,所述粘结膜的透湿度为10克每平方米每天,所述粘结膜的厚度小于基材的厚度,所述粘结剂的涂抹厚度小于基材的厚度。
进一步,所述基材为PET材质。
进一步,所述基材的厚度3-90微米。
有益效果:本实用新型的胶厚度较小,方便用于半导体晶圆加工,具有实用价值。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
附图标记说明
11基材;12粘结剂;13粘结膜;14基材部分;15胶带。
具体实施方式
一种半导体晶圆加工用胶带,所述胶带包括基材、粘结剂和粘结膜,所述粘结膜通过粘结剂与基材连接,所述粘结膜的透湿度为10克每平方米每天,所述粘结膜的厚度小于基材的厚度,所述粘结剂的涂抹厚度小于基材的厚度。
进一步,所述基材为PET材质。
进一步,所述基材的厚度3-90微米。
本实用新型的胶厚度较小,方便用于半导体晶圆加工,具有实用价值。
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