[实用新型]一种抗电磁波防刮花保护膜

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种保护膜，具体涉及一种用于数码相机、手机屏幕、电脑屏幕等显示屏抗电磁波防刮花保护，减少静电力的保护膜的制备工艺。本实用新型所涉及的保护膜工艺简单，可实现工业化。

背景技术

随着电子产品科技的快速发展，使更多的人拥有了电子产品，保护膜能起到美容电子产品，延长电子产品寿命的作用。因此，更多的电子产品拥有者愿意使用保护膜。

随着人类生活节奏的加快，人们越来越离不开电子产品。电子产品产生的电磁波直接危害着人们的健康。人体长期处于电磁波下会受到一定的伤害，容易造成人体免疫力下降、新陈代谢紊乱、记忆力减退、提前衰老等伤害，甚至导致各类癌症等。

目前市场上的保护膜，抗刮花性差，容易被手指、钥匙、挂件等硬件刮花刮伤，且静电力强，屏幕经常需要擦拭清洁。

鉴于以上存在的问题，本实用新型所涉及的抗电磁波防刮花保护膜除具有传统保护膜所具有的安装简单方便、排气速度快、不留残胶的特点外，因引入的纳米材料层能吸收电磁波，使涉及到的保护膜具有抗电磁波的功能，并兼有减少静电力的作用；防刮花层的引入使其具有防乱花的作用，抗刮花能力可以达到2H以上，能有效预防手指、钥匙、挂件等硬件刮花刮伤。可应用于数码相机、手机屏幕、电脑屏幕等显示屏保护并能避免电磁波对人正面辐射。本实用新型所涉及的保护膜工艺简单，可实现工业化。

实用新型内容

本实用新型针对以上的问题，在传统保护膜的基础上引入纳米材料层和防刮花层，因引入的纳米材料层能吸收电磁波，使涉及到的保护膜具有抗电磁波的功能，并兼有减少静电力的作用；防刮花层的引入使其具有防乱花的作用，抗刮花能力可以达到2H以上，能有效预防手指、钥匙、挂件等硬件刮花刮伤。

为达到上述目的，本实用新型采用以下方案：

一种抗电磁波防刮花保护膜，包含有：护膜层、A胶层、防刮花层、纳米材料层、主膜层、B胶层和剥离层共7层，在基体层的剥离层上表面设有B胶层，B胶层上设有主膜层，主膜层上引入纳米材料层，纳米材料层上引入防刮花层，防刮花层上设有A胶层，A胶层上设有护膜层。

在其中一些实施例中，所述护膜层下表面涂布着A胶层；在主膜层的一面涂布纳米材料层和防刮花层，A胶层与防刮花层贴合；主膜层的另一面涂布B胶层，剥离层与B胶层贴合。

在其中一些实施例中，所述各层厚度是：护膜层为50μm～100μm，A胶层为3μm～20μm，防刮花层为2μm～8μm，纳米材料层为2μm～8μm，主膜层为50μm～200μm，B胶层为3μm～20μm，剥离层为50μm～100μm。

本实用新型所涉及的抗电磁波防刮花保护膜除具有传统保护膜所具有的安装简单方便、排气速度快、不留残胶的特点外，因引入的纳米材料层能吸收电磁波，使涉及到的保护膜具有抗电磁波的功能，并兼有减少静电力的作用；防刮花层的引入使其具有防乱花的作用，可应用于数码相机、手机屏幕、电脑屏幕等显示屏保护并能避免电磁波对人正面辐射。本实用新型所涉及的保护膜工艺简单，可实现工业化。

附图说明

图1所示为本实用新型实施例的结构示意图。

附图标记说明如下：

1：护膜层，2：A胶层，3：防刮层，4：纳米材料层，5：主膜层，6：B胶层，7：剥离层。

具体实施方式

为能进一步了解本实用新型的特征、技术手段以及所达到的具体目的、功能，解析本实用新型的优点与精神，现结合具体实例进一步阐述本实用新型采用的技术方案、技术特征以及技术效果，藉由以下实施例对本实用新型做进一步的阐述，本实用新型权利要求不局限于所举实施案例。

本实用新型由厚度为50μm的PET材质护膜层1、厚度为10μm的A胶层2、厚度为3μm的防刮花层3、厚度为4μm的纳米材料层4、厚度为100μm的PET材质的主膜层5、厚度为20μm的B胶层6和厚度为50μm的PET材质剥离层7等共7层，本实施案例的A胶层2和B胶层6所用的是硅酮类粘着剂，防刮花层3和纳米材料层4所用的是丙烯酸类树脂，其中纳米材料层4用的材料是羟基Fe、Co、Ni等金属合金粉体与介质型纳米管分散于丙烯酸类树脂中。

本实用新型在基体层的剥离层7上表面设有B胶层6，B胶层6上设有主膜层5，主膜层5上引入纳米材料层4，纳米材料层4上引入防刮花层3，防刮花层3上设有A胶层2，A胶层2上设有护膜层1。