[实用新型]增亮膜有效
申请号: | 201320798298.6 | 申请日: | 2013-12-05 |
公开(公告)号: | CN203705767U | 公开(公告)日: | 2014-07-09 |
发明(设计)人: | 蔡鑫;周训虎 | 申请(专利权)人: | 成都领航科技股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/13357 | 分类号: | G02F1/13357;G02B5/04 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 吴开磊 |
地址: | 610000 四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 增亮膜 | ||
技术领域
本实用新型涉及液晶显示领域,具体而言,涉及增亮膜。
背景技术
目前,增亮膜被广泛应用于发光模组以用来汇聚光源所发出的光线,尤其是液晶显示器等显示设备中常应用增亮膜(BEF)来增加显示亮度和节约显示器电池设备的能量。传统的增亮膜容易产生牛顿环及迭纹干涉等负面光学效应。
实用新型内容
本实用新型提供了一种增亮膜,旨在解决传统增亮膜容易产生牛顿环及迭纹干涉等负面光学效应的问题。
本实用新型是这样实现的:
一种增亮膜,包括基板和结构层,所述基板为PET背板,所述结构层设置在所述PET背板的一侧,所述结构层包含至少两个第一棱镜,相邻所述第一棱镜之间设置有至少五个第二棱镜,每个所述第一棱镜远离所述PET背板的距离相等,均为14μm-16μm,每个所述第二棱镜远离所述PET背板的距离相等,均为12μm-14μm。
这种结构可以有效减少牛顿环及迭纹干涉等负面光学效应的产生,光学表现效果较好,减少增亮膜与扩散膜之间叠放时产生的静电污染现象,同时,第一棱镜与第二棱镜交叉设置可以减少在触摸、组装过程中的损坏。
进一步地,所述第一棱镜与所述第二棱镜的横截面均为等腰三角形,所述等腰三角形的顶角角度为85°-95°。顶角角度为85°-95°可以方便地控制光线的范围。
进一步地,所述等腰三角形的顶角呈圆弧状,圆弧状顶角的圆弧半径小于或等于2μm。圆弧状顶角减少产品叠加、组装过程中的划伤。
进一步地,所述第一棱镜与所述第二棱镜的表面粗糙度Ra均小于或等于20μm。表面粗糙度Ra较小,可以使三棱镜更加平整。
进一步地,所述第一棱镜与所述第二棱镜均等间隔设置。等间隔设置使光线分布更均匀。
本实用新型的有益效果是:这种结构可以有效减少牛顿环及迭纹干涉等负面光学效应的产生,减少增亮膜与扩散膜之间叠放时产生的静电污染现象,同时,第一棱镜与第二棱镜交叉设置可以减少在触摸、组装过程中的损坏。
附图说明
图1示出了本实用新型第一实施例提供的增亮膜;
图2示出了本实用新型第二实施例提供的增亮膜;
图3示出了本实用新型第三实施例提供的增亮膜。
具体实施方式
图1示出了本实用新型第一实施例提供的增亮膜,包括基板和结构层,基板为PET背板1,结构层设置在PET背板1的一侧,结构层包含两个第一棱镜2,相邻第一棱镜2之间设置有五个第二棱镜3,每个第一棱镜2远离PET背板1的距离相等,均为14μm,每个第二棱镜3远离PET背板1的距离相等,均为12μm。
这种结构可以有效减少牛顿环及迭纹干涉等负面光学效应的产生,光学表现效果较好,减少增亮膜与扩散膜之间叠放时产生的静电污染现象,同时,第一棱镜2与第二棱镜3交叉设置可以减少在触摸、组装过程中的损坏。
图2示出了本实用新型第二实施例提供的增亮膜,包括基板和结构层,基板为PET背板1,结构层设置在PET背板1的一侧,结构层包含两个第一棱镜2,相邻第一棱镜2之间设置有六个第二棱镜3,每个第一棱镜2远离PET背板1的距离相等,均为16μm,每个第二棱镜3远离PET背板1的距离相等,均为14μm;第一棱镜2与第二棱镜3的横截面均为等腰三角形,每个等腰三角形的顶角角度均为85°。
顶角的角度为85°-95°可以方便地控制光线的范围。
图3示出了本实用新型第三实施例提供的增亮膜,包括基板和结构层,基板为PET背板1,结构层设置在PET背板1的一侧,结构层包含两个第一棱镜2,相邻第一棱镜2之间设置有五个第二棱镜3,每个第一棱镜2远离PET背板1的距离相等,均为15μm,每个第二棱镜3远离PET背板1的距离相等,均为13μm,第一棱镜2与第二棱镜3的横截面均为等腰三角形,每个等腰三角形的顶角角度均为95°;等腰三角形的顶角呈圆弧状,圆弧状顶角4的圆弧半径为1.5μm,第一棱镜2与第二棱镜3的表面粗糙度Ra均小于或等于20μm,第一棱镜2与第二棱镜3均等间隔设置。
圆弧状顶角4减少产品叠加、组装过程中的划伤;表面粗糙度Ra较小,可以使三棱镜更加平整;等间隔设置使光线分布更均匀。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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