[实用新型]一种齐纳击穿的小回滞SCR结构的高压ESD保护器件有效

专利信息
申请号: 201320799954.4 申请日: 2013-12-09
公开(公告)号: CN203659858U 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 梁海莲;顾晓峰;毕秀文;董树荣 申请(专利权)人: 江南大学
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/40;H01L29/06;H01L29/74;H01L29/866
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214122 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 击穿 小回滞 scr 结构 高压 esd 保护 器件
【权利要求书】:

1.一种齐纳击穿的小回滞SCR结构的高压ESD保护器件,其包括两条SCR结构的ESD电流泄放路径和两条齐纳击穿的ESD电流泄放路径,以提高维持电压和增强器件的ESD鲁棒性,其特征在于:包括P型衬底(101)、N型埋层(102)、第一N阱(103)、P阱(104)、第二N阱(105)、下沉P掺杂(106)、第一隔离区(107)、第二隔离区(108)、第三隔离区(109)、第四隔离区(110)、第五隔离区(111)、第六隔离区(112)、第七隔离区(113)、第八隔离区(114)、第九隔离区(115)、第一N+(116)、第一P+(117)、第二N+(118)、第二P+(119)、第三N+(120)、第三P+(121)、第四P+(122)、第四N+(123)、第五P+(124)、第五N+(125)、第一金属1(126)、第二金属1(127)、第三金属1(128)、第四金属1(129)、第五金属1(130)、第六金属1(131)、第一金属2(132)、第二金属2(133)、第三金属2(134);

所述N+埋层(102)在所述P型衬底(101)的表面部分区域中,在所述N+埋层(102)和所述P型衬底(101)的表面,从左到右依次分别为所述第一N阱(103)、所述P阱(104)和所述第二N阱(105),所述第一N阱(103)的右侧与所述P阱(104)的左侧相连,所述P阱(104)的右侧与与所述第二N阱(105)的左侧相连,所述N+埋层(102)的左侧与所述第一N阱(103)、所述N+埋层(102)的左侧与所述第二N阱(105)的横向交叠横向长度必须大于某一定值;

所述第一N阱(103)表面区域内从左到右依次设有所述第一N+(116)、所述第二隔离区(108)、所述第一P+(117)、所述第三隔离区(109),所述P型衬底(101)的左侧边缘与所述第一N+(116)之间设有所述第一隔离区(107),所述第一隔离区(107)的左侧与所述P型衬底(101)的左侧边缘相连,所述第一隔离区(107)的右侧与所述第一N+(116)左侧相连,所述第一N+(116)右侧与所述第二隔离区(108)的左侧相连,所述第二隔离区(108)的右侧与所述第一P+(117)的左侧相连,所述第一P+(117)的右侧与所述第三隔离区(109)的左侧相连;

所述第二N+(118)横跨在所述第一N阱(103)与所述P阱(104)的表面部分区域,所述第二N+(118)与所述第一P+(117)之间设有所述第三隔离区(109);所述第三隔离区(109)的右侧与所述第二N+(118)的左侧相连;

所述P阱(104)表面区域内从左到右依次设有设有所述第二P+(119)、所述下沉P掺杂(106)和所述第四P+(122),所述下沉P掺杂(106)表面区域内从左到右依次设有所述第四隔离区(110)、所述第三N+(120)、所述第五隔离区(111)、所述第三P+(121)和所述第六隔离区(112),所述第二N+(118)的右侧与所述第二P+(119)的左侧之间的横向间距可以根据不同ESD设计窗口需求合理调节控制;

所述第二P+(119)横跨在所述P阱(104)与所述下沉P掺杂(106)的表面部分区域,所述第二N+(118)的左侧与所述第二P+(119)的右侧之间在水平方向上必须预留某一固定值的间隔,所述第二P+(119)的右侧与所述第四隔离区(110)的左侧相连,所述第四隔离区(110)的右侧与所述第三N+(120)的左侧相连,所述第三N+(120)的右侧与所述第五隔离区(111)的左侧相连,所述第五隔离区(111)的右侧与所述第三P+(121)的左侧相连,所述第三P+(121)的右侧与所述第六隔离区(112)的左侧相连,所述第六隔离区(112)的右侧与所述第四P+(122)的左侧相连;

所述第四N+(123)横跨在所述P阱(104)与所述第二N阱(105)之间的表面部分区域,所述第四P+(122)与所述第四N+(123)之间在水平方向上必须预留某一固定值的间隔,所述第四P+(122)的右侧与所述第四N+(123)的左侧之间的横向间距可以根据不同ESD设计窗口需求合理调节控制;

所述第二N阱(105)表面区域内从左到右依次设有所述第七隔离区(113)、所述第五P+(124)、所述第八隔离区(114)和所述第五N+(125),所述第四N+(123)与所述第五P+(124)之间设有所述第七隔离区(113),所述第五N+(125)与所述P型衬底(101)右侧边缘之间设有所述第九隔离区(115),所述第四N+(123)的右侧与所述七隔离区(113)的左侧相连,所述第七隔离区(113)的右侧与所述第五P+(124)的左侧相连,所述第五P+(124)的右侧与所述第八隔离区(114)的左侧相连,所述第八隔离区(114)的右侧与所述第五N+(125)的左侧相连,所述第五N+(125)的右侧与所述第九隔离区(115)的左侧相连,所述第九隔离区(115)的右侧与P型衬底(101)的右侧边缘相连;

所述第一金属1(126)、所述第二金属1(127)分别与所述第一N+(116)、所述第一P+(117)相连,所述第一金属2(132)和所述第一金属1(126)均与所述第二金属1(127)相连,构成器件的第一金属阳极,所述第五金属1(130)、所述第六金属1(131)分别与所述第五P+(124)、所述第五N+(125)相连,所述第三金属2(134)和所述第五金属1(130)均与所述第六金属1(131)相连,构成器件的第二金属阳极;

所述第三金属1(128)、所述第四金属1(129)分别与所述第三N+(120)、所述第三P+(121)相连,所述第二金属2(133)和所述第三金属1(128)均与所述第四金属1(129)相连,构成器件的金属阴极。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江南大学,未经江南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320799954.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top