[实用新型]一种氧含量检测装置有效

专利信息
申请号: 201320802618.0 申请日: 2013-12-06
公开(公告)号: CN203824976U 公开(公告)日: 2014-09-10
发明(设计)人: 王丽荣;董金卫;孙少东 申请(专利权)人: 北京七星华创电子股份有限公司
主分类号: G01N33/00 分类号: G01N33/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 孟宪功
地址: 100015 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 含量 检测 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及半导体工艺设备技术领域,尤其涉及一种氧含量检测装置。

背景技术

在半导体工艺设备中,要求在硅片暴露区域需要较低的含氧量,以保证生产出的硅片质量,因此实现硅片暴露区域内氧含量精确检测至关重要。

硅片的暴露区域有两部分,一是升降舟的微环境传片洁净区域,另一个是微环境传片洁净区域与硅片传送盒之间的硅片出入口区域。传统的半导体设备采用一个氧气分析仪,只检测升降舟的微环境区域,不检测硅片出入口区域的氧含量数值。当使用传统方法时,如果硅片出入口区域的氧含量很高,达不到技术要求,被传送的硅片将在此处受到严重的质量影响,且当硅片出入口区域的盒盖打开之后,还会让微环境的氧含量受到较大的波动,严重影响硅片传送制程;如果采用两个氧气分析仪分别检测以上区域的话,又会大大增加了设备的成本。

实用新型内容

(一)要解决的技术问题

本实用新型要解决的技术问题是提供了一种氧含量检测装置,既可以满足微环境传片洁净区域的氧含量检测要求,又可以满足微环境传片洁净区域与硅片传送盒之间的硅片出入口区域的氧含量检测要求,并且既可以实现单一检测管路单独控制,也可以实现同路检测。

(二)技术方案

为了解决上述技术问题,本实用新型提供了一种氧含量检测装置,包括氧气分析仪和一个或多个控制系统,所述氧气分析仪通过所述控制系统与检测区域连接。

其中,所述控制系统还连接有控制器,所述控制器与所述氧气分析仪连接。

其中,所述氧气分析仪、控制系统和检测区域之间通过管路依次密封连接。

其中,所述控制系统包括用于控制所述管路的通断的开关模块和用于操作开关模块的执行模块,所述氧气分析仪通过所述开关模块与所述检测区域连接,所述开关模块与所述执行模块连接,所述执行模块与所述控制器连接。

其中,所述开关模块为阀门。

其中,所述执行模块为气动执行机构。

其中,所述管路的材质为316L不锈钢。

其中,所述开关模块的材质为316L不锈钢。

(三)有益效果

本实用新型的上述技术方案具有以下有益效果:本实用新型的氧含量检测装置包括氧气分析仪和一个或多个控制系统,氧气分析仪用于分析检测区域的氧含量,氧气分析仪通过一个或多个控制系统与检测区域连接,从而保证检测区域中的每一点均通过一条路线连接到氧气分析仪上,从而通过每一路线上的控制系统控制该路线的通断,来实现检测区域内的不同位置的氧含量的检测。本实用新型的氧含量检测装置既可以检测到微环境传片洁净区域内的氧含量,也可以检测到第一硅片出入口区域和第二硅片出入口区域内部的氧含量,满足半导体工艺制程的要求,结构简单,也可降低设备成本。

附图说明

图1为本实用新型实施例的氧含量检测装置的工作原理图。

其中,1:控制器;2:氧气分析仪;3:第一执行机构;4:第二执行机构;5:第一阀门;6:第二阀门;7:第三阀门;8:第一检测口;9:第二检测口;10:第三检测口;11:管路;12:第一硅片传送盒;13:第三执行机构;14:第一硅片出入口区域;15:第二硅片出入口区域;16:微环境传片洁净区域;17:第二硅片传送盒。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型的实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型,但不能用来限制本实用新型的范围。

在本实用新型的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上;除非另有说明,“缺口状”的含义为除截面平齐外的形状。术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“前端”、“后端”、“头部”、“尾部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。

如图1所示,本实施例的氧含量检测装置包括氧气分析仪2和一个或多个控制系统,氧气分析仪2用于分析检测区域的氧含量,氧气分析仪2通过一个或多个控制系统与检测区域连接,从而保证检测区域内的每一点均通过一条路线连接到氧气分析仪2上,从而通过每一路线上的控制系统控制该路线的通断,来实现检测区域内的不同位置的氧含量的检测。

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