[实用新型]宽幅激光矢量蚀刻机有效
申请号: | 201320810409.0 | 申请日: | 2013-12-11 |
公开(公告)号: | CN203623154U | 公开(公告)日: | 2014-06-04 |
发明(设计)人: | 李晓笙 | 申请(专利权)人: | 广东东南薄膜科技股份有限公司 |
主分类号: | B41J2/435 | 分类号: | B41J2/435 |
代理公司: | 汕头市潮睿专利事务有限公司 44230 | 代理人: | 郭晓刚;俞诗永 |
地址: | 515000 广东省汕头市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 宽幅 激光 矢量 蚀刻 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种宽幅激光矢量蚀刻机。
背景技术
经过数十年发展,激光全息防伪产品也从最初的全息防伪标识逐步升级发展为第二代、第三代、第四代甚至第五代激光防伪技术。
(1)第一代激光防伪技术是激光模压全息图像防伪标识:全息照相技术是由美国科学家伯格(MJ·Buerger)在利用X射线拍摄晶体的原子结构照片时发现的,并与伽柏(D·Gaber)一起建立了全息照相理论:利用双光束干涉原理,令物光和另一个与物光相干的光束(参考光束)产生干涉图样即可把位相“合并”上去,从而用感光底片能同时记录下位相和振幅,就可以获得全息图像。70年代末期,人们发现全息图片具有包括三维信息的表面结构(即纵横交错的干涉条纹),这种结构是可以转移到高密度感光底片等材料上去的。1980年,美国科学家利用压印全息技术,将全息表面结构转移到聚酯薄膜上,从而成功地印制出世界上第一张模压全息图片,这种激光全息图片又称彩虹全息图片,它是通过激光制版,将影像制作在塑料薄膜上,产生五光十色的衍射效果,在普通光线下,隐藏的图像、信息会重现。激光模压全息防伪技术传入我国是在80年代末90年代初,特别是1990年至1994年期间,全国各地引进生产线上百条,占当时世界生产厂家的一半多。在引进初期,这种防伪技术确实起到了一定的防伪作用,但是随着时间的推移,激光全息图像制作技术迅速扩散,如今早已被造假者从各个方面攻破,几乎完全失去了防伪的能力。
(2)第二代改进型激光全息图像防伪技术 :第一代激光全息防伪技术的泛滥,促使人们不得不开始寻求改进现有技术。改进后的技术主要有三种:一是应用计算机图像处理技术改进全息图像;二是透明激光全息图像防伪技术,透明激光全息图像实际上就是取消了镀铝层,将全息图像直接模压在透明的聚酯薄膜上。;三是反射激光全息图像防伪技术, 用白光点光源照射全息图,介质内部生成的多层半透明反射面将光反射回来,迎着反射光可以看到原物的虚像,因而称为反射激光全息图。
(3)第三代加密全息图像防伪技术 :加密全息图像是指采用诸如激光阅读、光学微缩、低频光刻、随机干涉条纹、莫尔条纹等等光学图像编码加密技术,对防伪图像进行加密而得到的不可见或变成一些散斑的加密图像。
(4)第四代激光全息防伪技术 :这样的全息标识如同一幅内容丰富的小电视,设计者可在上面尽情挥洒,组合全息图具有组合全息图多种防伪手段,拍摄对像没有限制,可以是真人,真物体,甚至是电脑构制的虚幻物体。全息图的一个重要特征就是能够实现三维显示,且在以真彩色反应三维空间物体的同时,还能附载该三维空间随时间的变化,这样的全息标识如同一幅内容丰富的小电视。
(5)第五代宽幅激光全息点矩陈光刻防伪技术:其原理是利用计算机控制光学系统的各项参数,使激光束在置于精密二维自动平台的光刻胶版上以像素点为单位实现曝光,开成点陈宽幅全息图。
但是,上述第五代的宽幅激光全息点矩陈光刻防伪技术,只能做一些技术质量不高的154dpi-508dpi光刻技术, 且光刻最大面积不超过450mmX450mm,因此一般厂家生产的激光防伪标识,都因其分辩率低,定位不准确影响高端防伪性能各产品的成品率,只能用在一般商品上;对档次较高的防伪定位烟包及证件商品无法起到真正的防伪效果。例如,如图1所示,一种采用第五代的宽幅激光全息点矩陈光刻防伪技术的光刻机,包括机架、控制光电路、激光器S、干涉仪;所述控制光电路、激光器、干涉仪分别安装在机架上,所述干涉仪由第一平面偏转镜M1、第一光学透镜L1、第二光学透镜L2、第二平面偏转镜M2、第三光学透镜L3、第四光学透镜L4、第一光学棱镜L5、第二光学棱镜L6、中间分光反射透镜F、dpi遮掩片Y、会聚光学透镜。所述激光器S竖直设置。其缺点是:激光发光源(激光器S)发出的光束经过的光学透镜太多且多重折射,这会导致光栅亮度损失,造成分辩率较低,定位不够准确。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术分辩率较低,定位不够准确的缺点,提供一种宽幅激光矢量蚀刻机,这种宽幅激光矢量蚀刻机干涉仪的结构得到有效的简化,光栅亮度大幅提高,工作能力大幅改善。采用的技术方案如下:
一种宽幅激光矢量蚀刻机,包括机架、控制光电路、激光器、干涉仪;所述控制光电路、激光器、干涉仪分别安装在机架上,其特征在于:所述干涉仪由平面偏转镜、光学透镜、第一可移动棱镜、第一道威棱镜、第二道威棱镜、第二可移动棱镜和会聚光学透镜从左到右呈光学配合排列。
较优的方案,所述平面偏转镜为带有旋转电机的平面反射镜。
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