[实用新型]一种镜筒

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种在内部保持镜头与棱镜等光学元件的照相机、显微镜等光学装置的镜筒。

背景技术

保持摄影镜头、棱镜等光学元件的照相机、显微镜等光学装置的镜筒，通常在内壁面上实施防反射处理，从而抑制从光学系统的光路偏离的光线的反射，由此抑制重影和闪光的发生。为了抑制镜筒内从光路偏离的光线的反射，提出了各种方案。

日本专利文献特开平3-271708号，如图20所示，公开了下述镜筒，在安装在固定镜筒101内的中继镜筒102的内壁部中，通过扩大为了保持镜头105所需的3处镜头连接镜身部102a以外的部分102b的内径，并去除镜头连接镜身部102a的一部分102c，从而使镜筒内壁远离光路，减少内壁的反射光进入成像元件侧的镜头。但是，由于仅通过3处连接镜身部控制镜头，因此刚性降低。另外，由于仅是稍微扩大镜筒的内径及改变反射角度，因此并不能完全防止内壁的反射光进入成像元件侧的镜头，不能得到充分的防反射效果。

日本专利文献特开平7-27960号，如图21以及图22所示，公开了下述塑料镜筒，在镜筒201的第一组镜头A和第二组镜头B之间的内壁面上形成有波状突起状的遮光线202，遮光线202的头顶部203从光线的入射侧向出射侧升高。但是，由于波状突起的前端呈圆弧因此不能完全抑制反射，如果与相邻的波状突起的高度差较小则不能够防止光的通过。另外，如果镜头间的距离较大则波状突起的数量增加，因此必须扩大镜筒内径。此外，微小的波状突起以及磨砂处理将变为锚点，在成形时剥离较为困难。

日本专利文献特开2002-107597号，公开了下述方法，通过对镍-磷合金膜进行电镀、气相沉积或者轧制成片制作在镜筒内之后再进行蚀刻处理。但是，由于需要对不进行电镀和气相沉积的部分进行屏蔽，因此工序复杂而且很难进行精确的处理。另外，使薄片粘贴在具有复杂结构的镜头镜筒的内壁面并不容易。

日本专利文献特开2005-156989号，公开了下述方法，（a）在镜头镜框的内壁面通过光刻技术形成细微凹凸结构的方法，（b）在镜头镜框的内壁面形成铝薄膜之后，通过对铝薄膜进行阳极氧化，形成细微凹凸结构的方法，以及（c）在镜头镜框上实施黑色耐酸铝处理的基础上，在其内壁面粘贴具有细微凹凸结构的薄片的方法。另外，日本专利文献特开2006-293093号，公开了下述镜筒，其具有在镜头镜框的内壁面粘贴具有阵列状的细微凹凸结构的薄片、或通过利用了成形模具的喷射成形在镜头镜框的内壁面上使阵列状的细微凹凸结构一体成形而成的防反射结构体。

但是，如日本专利文献特开2005-156989号以及日本专利文献特开2006-293093号所述，通过光刻技术、阳极氧化法或者喷射成形使细微凹凸结构形成在镜头镜框的内壁面上、或者使具有细微凹凸结构的薄片粘贴在镜头镜框的内壁面上的工序复杂，需要花费时间。特别是具有多个镜头组的变焦镜头系列的镜头镜框等，内部结构复杂，通过上述方法设置细微凹凸结构较困难。此外，在日本专利文献特开2005-156989号中，利用阳极氧化法时需要在镜头镜框的内壁面上形成铝薄膜，但形成铝薄膜本身较困难。

另外，如日本专利文献特开2005-156989号以及日本专利文献特开2006-293093号所述的细微凹凸结构的防反射功能不能说很充分，很难抑制重影和闪光的发生。另外，在黑色耐酸铝处理中镜头镜框的内壁面不能完全变为黑色，防反射功能不高。

日本专利文献特开2009-151192号，公开了下述镜筒组件的生产方法，在镜筒上形成Al、Mg、Zn等电离趋势大的金属层，在其金属层的表面通过酸或者碱处理形成氧化物层或者氢氧化物层之后，通过进行热水处理或者水蒸气处理形成细微凹凸结构层。但是，由于暴露在150℃的加热水蒸气或50℃的热水中之后，进行100℃～400℃的热处理，将对镜筒造成损伤。另外，由于需要在内壁面上屏蔽之后进行热水处理或者水蒸气处理，因此工序复杂而且很难进行精确的处理。

日本专利文献特开2010-186157号，公开了下述镜筒组件，作为防反射加工通过在镜筒组件内实施镍系电镀处理之后进行蚀刻处理，随机地形成高度为0.5～5μm、间距为0.1～10μm的多个微小突起。但是，为了在复杂形状的镜头镜筒内部，使需要微細突起的部分和不可以存在微細突起的部分（例如，螺丝孔、与镜头连接的部分）分开，仅在需要的部分形成微細突起，必须对后者的部分进行精密地屏蔽并在电镀处理后对屏蔽进行剥离，操作性不好。

实用新型所要解决的技术问题

因此，本实用新型的目的在于提供一种可以不在内壁面进行屏蔽容易地实施防反射处理的镜筒。

实用新型内容