[实用新型]同步录音录像一体机有效

专利信息
申请号: 201320822154.X 申请日: 2013-12-12
公开(公告)号: CN203721187U 公开(公告)日: 2014-07-16
发明(设计)人: 徐向涛 申请(专利权)人: 极影电子(北京)有限公司
主分类号: G11B33/00 分类号: G11B33/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 李相雨
地址: 100083 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 同步 录音 录像 一体机
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及录音录像技术领域,特别涉及一种同步录音录像一体机。

背景技术

目前,同步录音录像一体机的普及日益广泛,同步录音录像一体机一般可应用于审讯等需及时录音录像的领域。

现有技术中的同步录音录像一体机一般包括:显示屏、支撑臂和机箱,在其处于工作状态时,所述显示屏与所述机箱顶端呈预设角度,所述预设角度为锐角或直角;在其处于闭合状态时,所述显示屏呈水平状态、且位于所述机箱顶端,但由于所述机箱顶端与所述显示屏之间存在较大空隙,导致灰尘等污染物容易通过所述空隙吸附在显示屏表面,在放置一段时间后,显示屏表面会集上较厚的一层灰尘,对使用者造成了较大影响。

实用新型内容

(一)要解决的技术问题

本实用新型要解决的技术问题是:如何防止同步录音录像一体机处于闭合状态时,污染物通过空隙吸附在显示屏表面。

(二)技术方案

为解决上述技术问题,本实用新型提供了一种同步录音录像一体机,所述同步录音录像一体机包括:显示屏、支撑臂和机箱,所述显示屏上的显示面包括:显示区域和边框,位于所述显示区域上方的边框设有与所述边框垂直的第一外延部,位于所述显示区域两侧的边框设有与所述边框垂直的第二外延部,当所述同步录音录像一体机处于闭合状态时,所述显示面、第一外延部、第二外延部和机箱顶端之间形成密闭的空间。

其中,所述第一外延部和第二外延部的厚度范围均为1.3~1.5mm。

其中,所述显示屏为触摸屏。

其中,所述显示屏为液晶显示屏、等离子显示屏或发光二极管LED显示屏。

其中,所述支撑臂和机箱之间为带阻尼的转动连接。

其中,所述支撑臂和显示屏之间为活动连接。

(三)有益效果

本实用新型通过第一外延部和第二外延部使得所述显示面、第一外延部、第二外延部和机箱顶端之间形成密闭的空间,同步录音录像一体机处于闭合状态时,避免了污染物通过空隙吸附在显示屏表面。

附图说明

图1是本实用新型一种实施例的同步录音录像一体机中显示屏的结构示意图;

图2是本实用新型一种实施例的同步录音录像一体机处于工作状态时的结构示意图;

图3是本实用新型一种实施例的同步录音录像一体机处于闭合状态时的结构示意图。

其中,1:显示区域;2:边框;3-1:第一外延部;3-2:第二外延部;4:第一凹槽;5:机箱;6:第二凹槽。

具体实施方式

下面结合附图和实施例,对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型,但不用来限制本实用新型的范围。

图1是本实用新型一种实施例的同步录音录像一体机中显示屏的结构示意图;图2是本实用新型一种实施例的同步录音录像一体机处于工作状态时的结构示意图;图3是本实用新型一种实施例的同步录音录像一体机处于闭合状态时的结构示意图;参照图1~3,所述同步录音录像一体机包括:显示屏、支撑臂(未示出)和机箱,所述显示屏上的显示面包括:显示区域1和边框2,位于所述显示区域1上方的边框2设有与所述边框2垂直的第一外延部3-1,位于所述显示区域1两侧的边框2设有与所述边框2垂直的第二外延部3-2,当所述同步录音录像一体机处于闭合状态时,所述显示面、第一外延部3-1、第二外延部3-2和机箱5顶端之间形成密闭的空间。

为保证外延部的强度,优选地,所述第一外延部3-1和第二外延部3-2的厚度范围均为1.3~1.5mm。

为便于固定所述显示屏,防止运输所述同步录音录像一体机由于抖动,而使得所述显示屏与所述机箱产生相对运动,而损坏所述同步录音录像一体机,优选地,所述第一外延部3-1上设有第一凹槽4,所述机箱侧壁设有两个第二凹槽6,当所述同步录音录像一体机处于闭合状态时,所述第一凹槽4由设置于所述第二凹槽6内的小钩(未示出)勾住。

为便于人机交互,优选地,所述显示屏为触摸屏。

为保证显示效果,优选地,所述显示屏为液晶显示屏、等离子显示屏或发光二极管LED显示屏等显示屏。

为便于将显示屏和机箱进行活动连接,优选地,所述支撑臂和机箱之间为带阻尼的转动连接。

为便于调整所述显示屏的角度,优选地,所述支撑臂和显示屏之间为转动连接。

以上实施方式仅用于说明本实用新型,而并非对本实用新型的限制,有关技术领域的普通技术人员,在不脱离本实用新型的精神和范围的情况下,还可以做出各种变化和变型,因此所有等同的技术方案也属于本实用新型的范畴,本实用新型的专利保护范围应由权利要求限定。

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