[实用新型]一种立式真空溅射镀膜生产线

权利要求书

1.一种立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于，包括：一传送流水线和一镀膜流水线，镀膜流水线与传送流水线连接，传送流水线传送基片，镀膜流水线包括进口腔室、进口过渡腔室、进口缓冲腔室、镀膜腔室、出口缓冲腔室、出口过渡腔室和出口腔室，所述进口腔室、进口过渡腔室、进口缓冲腔室、镀膜腔室、出口缓冲腔室、出口过渡腔室和出口腔室依次首尾连接，所述基片通过进口腔室从传送流水线进入镀膜流水线，通过出口腔室从镀膜流水线移出。 

2.如权利要求1所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：所述传送流水线与镀膜流水线平行设置。 

3.如权利要求1所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：镀膜腔室中设有一移动式阴极装置，所述移动式的阴极装置的靶材轰击轨道非固定。 

4.如权利要求3所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：所述移动式阴极装置包括阴极组件和平移组件，所述阴极组件与平移组件固定连接且随平移组件的运动平动，其中阴极为平面磁控溅射阴极；所述阴极组件与平移组件通过一绝缘件连接。 

5.如权利要求4所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：阴极组件包括靶材、靶背板、磁铁和轭铁，靶背板四周围有绝缘垫，靶材固定连接靶背板，磁铁固定于轭铁上，且轭铁连接绝缘件。 

6.如权利要求5所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：阴极组件中的磁铁可选用现有技术中的各种磁铁阵，或多个磁铁排布而成，或定制成型磁铁而成。 

7.如权利要求6所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：靶背板与磁铁相对面开有一凹槽，磁铁位于所述凹槽内但不接触所述靶背板。 

8.如权利要求7所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：所述磁铁随平移组件在凹槽内平动。 

9.如权利要求4所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：所述平移组件由外至内依次为移动件、滑轨件、安装件和支撑件，其中移动件分别与绝缘件和滑轨件中的滑块连接，安装件与滑轨件中的滑轨连接，且安装件与支撑件连接。 

10.如权利要求4所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：所述平移组件由外至内依次为移动件、滚珠丝杠件、安装件和支撑件，其中移动件分别与绝缘件和滚珠丝杠件中的螺母连接，安装件与滚珠丝杠件中的固定件连接，且安装件与支撑件连接。 

11.如权利要求4所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：所述平移组件包括一移动件、一滑轨件、一滚珠丝杠件、安装件和支撑件；滑轨件包括一滑块和一滑轨，滑块与滑轨配合，滑块在滑轨上滑动；滚珠丝杠件包括一螺母、一螺杆和一安装座，螺杆安装在安装座上，螺杆与螺母配合，螺杆转动时，螺母沿螺杆平动；移动件上分别连接滑轨件中的滑块和滚珠丝杠件的螺母，安装件分别连接滑轨件中的滑轨和滚珠丝杠件的安装座；此时移动件在滑轨件和滚珠丝杠件的共作用下平动。 

12.如权利要求10或11所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：滚珠丝杠件电连接一电机，由电机驱动滚珠丝杠件中的螺母平动。 

13.如权利要求12所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：电机为一伺服电机，通过一同步带传动滚珠丝杠件。 

14.如权利要求11所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：平移组件至少包括两个滑轨件且分布于滚珠丝杠件的两侧，以更好的承重阴极组件，使该阴极装置平动更为稳定均匀。 

15.如权利要求10或11所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：平移组件还包括一光电感应器，分设于滚珠丝杠件的螺杆的两侧。 

16.如权利要求4所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：所述阴极装置还包括一连接件，该连接件与真空镀膜生产线中的镀膜腔室的箱体活动连接，且平移组件连接该连接件。 

17.如权利要求16所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：所述活动连接为铰接。 

18.如权利要求16所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：当该阴极装置为多个时，该连接件为同一连接件，此时，多个阴极装置共连接于该连接件上。