[实用新型]一种PET转移镭射膜的真空镀膜机

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种真空离子蒸发镀膜机，特别是一种PET转移镭射膜的真空镀膜机。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行镀膜的机械设备，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。现实中PET转移镭射膜的镀铝就需要用到真空离子蒸发镀膜机，此装置具有良好的镀铝效果，制造出的PET转移镭射膜的产品质量相较同类产品具有较大优势。但市面上的真空镀膜机所镀的铝层上存在着气泡，极大的影响了PET转移镭射膜的产品质量。

中国发明专利第CN102899620A号公开了一种真空镀膜装置，其结构包括真空沉积腔室、位于真空沉积腔室内的托架和靶材，托架为网状的穹顶结构，托架之环部通过环状滚珠轴承支撑在位于真空沉积腔室内的环形支撑架，托架之环部侧部为齿条，并与位于真空沉积腔室内的驱动齿轮啮合，驱动齿轮上转轴延伸出真空沉积腔室后，由控制马达驱动转动，靶材位于该穹顶结构下方，还设有一个可控制靶材加热挥发的加热机构，穹顶结构与真空沉积腔室顶部之间至少设有一个能对托架上的工件加热的电热丝加热体，加热机构为安装于真空沉积腔室内的、可放置靶材的槽状金属加热体，槽状金属加热体两侧设有一对电极，对电极另一端引出于真空沉积腔室后，分别与电源变压器之次级绕组引出端连接。此装置制造出的PET转移镭射膜的膜层不够平整，会对PET转移镭射膜的产品质量造成很大影响。

发明内容

本实用新型需要解决的技术问题是通过真空镀膜机生产PET转移镭射膜时，在吹气地作用下使PET转移镭射膜的膜层更加平整，从而提高产品的质量；提供一种PET转移镭射膜的真空镀膜机。

为解决上述的技术问题，本实用新型的结构包括工作机体、抽真空装置、蒸发加热装置和回转控制系统，回转控制系统设置在蒸发加热装置的上方；工作机体的侧面还连有吹气装置，吹气装置的一端穿过工作机体的侧壁并伸至回转控制系统的上方。

进一步：所述的吹气装置是由抽气泵和排气管所组成，抽气泵安装在工作机体的侧壁上，排气管的一端穿过工作机体的侧壁并伸至回转控制系统的上方，正对回转控制系统的排气管下方密布着出气小孔，排气管通过橡胶套筒与工作机体进行密封。

又进一步：所述的工作机体内设有检测装置，检测装置是由光电开关和水晶振荡监控器所组成，光电开关和水晶振荡监控器分别安装在回转控制系统两侧工作机体的侧壁上。

又进一步：所述的回转控制系统是由五个旋转滚筒所组成，五个旋转滚筒呈“W”字形排列安装在工作机体的内部。

又进一步：所述的蒸发加热装置为电极蒸发装置，电极蒸发装置包括正极碳棒和负极碳棒，正极碳棒和负极碳棒分别安装在工作机体两侧侧壁的底部，正极碳棒和负极碳棒之间还夹装着坞棒。

再进一步：所述的抽真空装置包括机械泵、增压泵和油扩散泵，机械泵与油扩散泵相连，机械泵、增压泵和油扩散泵分别与四向密封阀相连，四向密封阀通过管道与工作机体的内部相连通。

采用上述结构后，本实用新型不仅可以通过吹气使PET转移镭射膜的膜层更加平整，从而提高了产品的质量；而且可以通过电极加热加快了堵料的蒸发，提高了工作效率；并且本设计采用真空室镀料，具有良好的密封性，可以起到防止物料蒸发后飞出，不仅降低了成本的浪费，而起还防止了物料飞出后对环境造成污染。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为图1中2的结构示意图。

图中：1为工作机体，2为抽真空装置，3为正极碳棒，4为负极碳棒，5为坞棒，6为抽气泵，7为排气管，8为出气小孔，9为旋转滚筒，10为橡胶套筒，11为水晶振荡监控器，12为光电开关，13为机械泵，14为增压泵，15为油扩散泵，16为四向密封阀

具体实施方式