[实用新型]一种弧流式支撑导流盘有效

专利信息
申请号: 201320836699.6 申请日: 2013-12-18
公开(公告)号: CN203668029U 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 宋岱峰 申请(专利权)人: 成都美富特膜科技有限公司
主分类号: C02F1/00 分类号: C02F1/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610400 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 弧流式 支撑 导流
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种导流盘,具体地说,是涉及一种弧流式支撑导流盘。   

背景技术

在污水处理设备中,尤其是运行环境苛刻的高污染水处理设备中,导流盘是必不可少的基本组件之一,其主要作用是对污水处理设备内的液体流向进行导向,进而实现浓液和清液的分离。

为提高对流体的导向作用,导流盘上通常会设置很多阻流凸点,通过阻流凸点一方面可以对流体形成导向作用,另一方面可以对与导流盘接触的滤膜形成支撑作用,一举两得。但是,现有的导流盘在对阻流凸点的设计上并不合理,阻流凸点的应用价值并没有得到最大化体现,其主要原因在于:就单个阻流凸点而言,其整体形状为半椭圆体,或者底部为椭圆形、顶部为光滑弧面的凸起,这种形状的阻流凸点在支撑滤膜时,与滤膜的接触面积较大,既会加快滤膜的磨损,又减小了滤膜与流体的接触面积,致使滤膜的有效利用面积降低;而就所有阻流凸点而言,现有的排布方式为圆形分散式排布,这种方式对导流产生的效果并不好。

基于上述问题,提高导流盘的整体性能,使其实用价值得到更好地体现,便成为了当前导流盘设计的研究重点。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种弧流式支撑导流盘,解决现有导流盘上阻流凸点存在的问题,以提高导流盘的整体性能。

为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案如下:

一种弧流式支撑导流盘,包括导流盘本体,在该导流盘本体的上下底面上分别设置有多个阻流凸点,所述阻流凸点在所述导流盘本体上呈弧流状分布。

进一步地,所述阻流凸点所呈现的弧流弯曲方向与所述导流盘本体的进液方向相同。

再进一步地,所述阻流凸点所呈现的弧流弯曲度为60o~75o。

更进一步地,所述阻流凸点底部为圆柱形,而顶部为半球形。

与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:

    (1)本实用新型通过改变阻流凸点的排布方式,将常规的圆形排布方式改变为弧流式,使得阻流凸点的排布方式顺应了流体在导流盘内的流动趋势,如此可大大提高阻流凸点对流体的导向效果,使流体在导流盘内形成更加有效的湍流状态,导流盘的性能也得到了更充分的体现。

(2)本实用新型在阻流凸点的弧流弯曲方向和弯曲度上都进行了改进,使得阻流凸点对流体的导向效果得到了进一步提高,导流盘的整体性能更加优越。

(3)本实用新型还对阻流凸点的具体形状进行了改进,使其更加适合在导流盘上的应用,在对滤膜形成支撑作用的同时,有效减少了与滤膜的接触面积,提高了滤膜的利用率。

(4)本实用新型原理简单,设计巧妙,实现方便,成本几乎不变,而整体性能却得到了明显提升,非常适合大规模推广应用。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型中阻流凸点的结构示意图。

上述附图中,附图标记对应的部件名称如下:

1-导流盘本体,2-阻流凸点。 

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明,本实用新型的实施方式包括但不限于下列实施例。

实施例

如图1和图2所示,弧流式支撑导流盘,由导流盘本体1组成,在该导流盘本体上设置有多个阻流凸点2;而在整个导流盘本体1的中心,则开有通孔,用于安装对导流盘进行定位和固定的拉杆;同时,在通孔与阻流凸点之间,还设置有密封槽,用于安装密封圈。

本实施例中,所述阻流凸点在导流盘本体的表面上整体呈弧流状排布。所谓弧流状,是指所有的阻流凸点分成若干组,同一组中阻流凸点的连线构成一条弧线,且各个组中阻流凸点的连线其弯曲方向相同,弯曲弧度也相同,如此使得阻流凸点在导流盘本体上形成一个漩涡式的流动态势,进而对流体形成强大的弧流式导向。当流体在导流盘本体上流动时,在阻流凸点的导向下,也将按照这漩涡式的态势流动,使流体在流动过程中形成湍流状态,这种湍流状态可以使流体中的污渍、杂质更容易被分离、过滤,污水处理更彻底,处理效果更佳。

为了使阻流凸点更加合理,导流盘的整体性能更佳,本实施例将阻流凸点的弧流方向设计成与导流盘本体的进液方向相同,而弧流弯曲度则优选60o。同时,将阻流凸点的底部设计成圆柱形,顶部设计成半球形,如此,既可以对滤膜形成有效的支撑,又可以大大减小与滤膜的接触面积,增大滤膜与流体的接触面积,从而使滤膜的利用率大大提高。

通过上述方案,可以使导流盘的整体性能得到明显提升,而上述实施例仅为本实用新型的优选实施例,并非对本实用新型保护范围的限制,但凡采用本实用新型的设计原理,以及在此基础上进行非创造性劳动而作出的变化,均应属于本实用新型的保护范围之内。

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