[实用新型]一种PECVD进气结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及反应室的均匀进气方式，尤其涉及一种管式PECVD的喷淋进气方式。 

背景技术

PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 是等离子体增强化学气相沉积法，它的工作原理是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，形成等离子体，这些等离子体与基片表面发生化学反应，从而在基片上沉积出所期望的薄膜。PECVD设备则是这个过程中的关键设备。PECVD设备镀膜的均匀性，对太阳能电池的转换效率有着严重的影响。如图1所示，目前PECVD设备的进气结构是：一根直管A1从前过渡法兰A2底部，直接进入反应室。采用这种结构的进气方式是将工艺气体先混合，再通过这根直管进入反应室底部，由于只通过一个入口进入反应室，使得气体过于集中。并且，工作时，反应室处于真空状态，工艺气体从底部直接进入，使得气体沉积于反应室底部，使得反应室底部的气体密度高于顶部，导致气体分布不均匀，生产出来的太阳能电池转换效率不高。 

发明内容

本实用新型为了解决上述现有技术中存在的技术问题，提出了一种PECVD进气结构，包括设于反应室内的一Y型进气管，所述Y型进气管的两个进气口穿过反应室底部的前过渡法兰，分别与反应室外的两根工艺管道连接，所述Y型进气管的出气口上设有一喷淋进气嘴，所述喷淋进气嘴的开口朝向反应室的顶部设置。 

优选的，在Y型进气管的两个进气口之间设有固定板，所述固定板上设有通孔，所述Y型进气管通过旋紧螺丝固定在前过渡法兰上。 

本实用新型采用了喷淋进气方式，使工艺气体均匀的分布到整个反应室，提高了镀膜的均匀稳定性。并且采用本实用新型进行PECVD镀膜的生产试验，通过多次反复检测，得出采用此种进气方式后，电池片的镀膜更均匀稳定，生产出的太阳能电池片的转换率提高了大约2.39％，也极大的提高了太阳能电池片单位面积上的发电产能。 

附图说明

图1是现有技术的结构示意图； 

图2是本实用新型的结构示意图；

图3是本实用新型进气管的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明。 

如图2至图3所示，本实用新型一实施例提出的PECVD进气结构，采用Y型进气管B1来进气，该Y型进气管设于反应室内，包括两个进气口C1和一个出气口C3，两个进气口之间通过一固定板C2相连接，固定片上设有通孔，一旋紧螺丝B3穿过该通孔，将Y型进气管固定在反应室底部的前过渡法兰B2上。该Y型进气管的两个进气口C1穿过前过渡法兰B2，分别与反应室外的两根工艺管道B4连接，Y 型进气管B1的出气口上再设置一喷淋进气嘴C4，并且喷淋进气嘴的开口朝向反应室的顶部设置。 

进气时，工艺气体通过工艺管道从前过渡法兰进入，再通过Y 型进气管B1汇合，最后通过喷淋进气嘴C4，以风帘的方式喷向反应室的顶部，由于反应室为圆形，通过反应室圆形的顶部，可以将工艺气体以发散的方式反射回来，通过反复的反射，形成一道致密的喷淋网，使得工艺气体可以均匀扩散至整个反应室，极大的提高了太阳能电池片镀膜的均匀性，也提高了太阳能电池片的转换率。 

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。