[实用新型]真空磁控溅射金属膜层厚度控制系统有效
| 申请号： | 201320844544.7 | 申请日： | 2013-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN203878060U | 公开（公告）日： | 2014-10-15 |
| 发明（设计）人： | 林孟君 | 申请（专利权）人： | 华泰（桐乡）玻璃明镜有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/09 | 分类号： | C03C17/09 |
| 代理公司： | 天津三元专利商标代理有限责任公司 12203 | 代理人： | 钱凯 |
| 地址： | 314500 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 磁控溅射 金属膜 厚度 控制系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种真空磁控溅射金属膜层厚度控制系统，其特征在于，包括：
一真空室，内具有输送器并设输送器速度控制器，将玻璃放置于输送器上，于玻璃上端的金属靶材可于电流控制器作用下将金属镀于玻璃表面上，金属膜层的厚度可由电流控制器调整电流大小及输送速度控制器控制速度来设定金属膜层的厚度；
一玻璃，置放于输送器上；
一输送器，上放置玻璃，可由输送速度控制器控制玻璃的输送速度；
一输送速度控制器，可控制输送器输送玻璃的速度；
一金属靶材，在电流控制器输出的电流作用下其金属可借真空磁控溅射原理镀于玻璃表面；
一电流控制器，可依设定输出特定电流。
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