[实用新型]一种抛磨装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种抛磨装置，特别是应用在瓷砖、大理石等物料进行加工的固定式抛光机上的抛磨装置。

背景技术

目前市场上的抛光机由于磨盘较小，无法完全覆盖规格较大的物料，那么就需要通过摆动机构不断移动磨盘才能对物料进行全面的抛光和研磨。但是这种摆动式的抛光和研磨过程，造成物料表面各处打磨程度不相同，严重影响物料表面的光滑度，这种往复式的工作浪费时间的同时，增大了磨盘的损耗，严重影响生产效率，增大了生产成本。

实用新型内容

本实用新型的目的在于解决现有技术中对物料加工的过程中，物料加工效果差，抛磨装置磨损较大，使用时间短的缺陷。

本实用新型采用的技术方案为：一种抛磨装置，包括磨盘、磨块座、磨块及连接磨块座与磨盘的花键轴，所述磨块与磨块座插接，所述磨块座通过花键轴均匀分布在磨盘外侧圆周上，所述磨盘上至少设置有一组磨块座，所述磨盘的直径为大于900mm。

优选的是，所述磨块为金刚砂磨块。

优选的是，磨块座上安装600、800位磨块。

优选的是，还包括两个防止磨盘漏油的油封，所述油封位于磨盘上方。

优选的是，还包括用于安装磨盘的齿轮及空心轴，所述齿轮位于磨盘上方，所述空心轴贯穿磨盘，所述齿轮与空心轴采用双键联接。

优选的是，所述磨盘上还包括有与花键轴配合安装的花键套，所述花键套上安装有15个缓冲橡胶粒。

优选的是，所述磨盘内还包括小齿轮，所述小齿轮对称分布在磨盘内。

优选的是，磨盘圆盘上分布有8个磨块座。

本实用新型的有益效果为：超大的磨盘避免了原有抛光装置由于往复摆动造成的物料表面抛光程度不同，影响物料表面的光滑度，同时节约了往复摆动的时间。

附图说明

图1为本实用新型的结构图。

图2为本实用新型中花键轴安装部分的结构图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做进一步说明。

如图1所示，本实用新型包括磨盘1、磨块座3、磨块及连接磨块座与磨盘的花键轴2，所述磨块安装在磨块座3的底部，并根据加工物料的尺寸和材料更换磨块，拆卸方便，结构简单。由于市面上普遍生产的是尺寸为600-800mm的瓷砖，因此优先选择使用600位及800位的磨块。

所述磨盘1直径为大于900mm，在磨盘内部安装两个小齿轮6，其夹角为180°。由于磨盘1直径较大，磨盘1在旋转的过程中，齿轮5和齿轮4与小齿轮6间的传动受力增大，小齿轮轴7在旋转过程中容易因为受力变形等损坏，因此在内部设置两个对称分布的小齿轮6，增加其受力强度及耐用度。

所述磨盘1的直径为大于900mm。在磨盘1的圆周外侧均匀分布8个磨块座3。由于磨盘1直径较大，磨盘1在旋转的过程中，磨盘中各个环节受力增大，因此齿轮4与空心轴的联接由单键改为双键联接；轴承座的轴承由原来61926改为6230大轴承；上、下锥度轴承亦由原来32013改为现在的32016大轴承。

所述磨盘1上部大油封改为从上部装入，这样装配更加容易；另外由单油封改为双油封，密封性更好，不容易漏油。

如图2所示，花键套橡胶粒孔由9个改为15个孔，增加了磨盘1抛砖时的缓冲力。

在抛磨过程中，磨盘1通过花键轴2带动磨块座3作圆周旋转装在磨块座3下部的磨块在跟磨盘1作圆周旋转对物料表面进行研磨抛光。

以上所述仅为本实用新型较佳的实施方式，并非用来限定本实用新型的实施范围，但凡在本实用新型的保护范围内所做的等效变化及修饰，皆应认为落入了本实用新型的保护范围内。