[实用新型]一种用于化妆品包装容器的空气转写装置有效

专利信息
申请号: 201320855298.5 申请日: 2013-12-24
公开(公告)号: CN203652213U 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 胡命基 申请(专利权)人: 藤兴工业有限公司
主分类号: B65C3/06 分类号: B65C3/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215127 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 化妆品包装 容器 空气 转写 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及化妆品包装容器的制备领域,具体涉及一种用于化妆品包装容器的空气转写装置。

背景技术

化妆品是指以涂抹、喷、洒或者其他类似方法,施于人体(皮肤、毛发、指趾甲、口唇齿等),以达到清洁、保养、美化、修饰和改变外观或修正人体气味,保持良好状态为目的的产品。

如今,随着人们生活水平的提高,对化妆品的要求也越来越高,不仅对化妆品本身的要求提高了,同时,还提高了对化妆品包装容器的要求,由原先单一的瓶装或罐装,到现在需要设计成各式各样的形状,来置纳化妆品。由于,设计出的有些异形容器表面不是完全光滑的平面,而是有许多凹凸不平之处,这样的结构通常难以通过常规的加工方式进行二次加工,即在表面设置图案层,以此来提高美观性。

现有一些对异形产品进行二次加工的设备,结构较复杂,且一种设备只能加工一种产品,通用性不好,若是要加工另一种产品,还得重新开发新的设备,设计成本较高。

因此,一种通用性好,结构简单,便于进行二次加工的用于化妆品包装容器的空气转写装置亟待出现。

实用新型内容

为解决上述技术问题,本实用新型的目的在于提供一种通用性好,结构简单,便于进行二次加工的用于化妆品包装容器的空气转写装置。

为达到上述目的,本实用新型的技术方案如下:一种用于化妆品包装容器的空气转写装置,包括上密封罩和下密封罩,所述上密封罩与所述下密封罩合起来形成一个密封的腔室;在所述上密封罩和所述下密封罩之间设置有转写薄膜;

在所述下密封罩里设置有放置待加工产品的治具,所述治具包括底座和与待加工产品外形结构相匹配的治具本体;所述治具本体装设于所述底座上方;

在所述上密封罩上装设有具有抽真空功能的第一抽气结构,在所述下密封罩上装设有具有抽真空功能的第二抽气结构。

优选的,在所述上密封罩边沿底端设置有一圈浅形凹槽。

优选的,在所述下密封罩的边沿顶端设置有与所述凹槽相匹配的凸台。

优选的,在所述凹槽与所述凸台的棱角处均设置成圆角。

优选的,在所述底座上表面开设有燕尾槽,在所述治具本体下端设置有与所述燕尾槽相匹配的燕尾。

优选的,所述燕尾槽为一通槽,所述燕尾槽贯穿于所述底座的左端和右端。

优选的,所述燕尾槽的条数为1条或者两条。

通过上述技术方案,本实用新型技术方案的有益效果是:一种用于化妆品包装容器的空气转写装置,包括上密封罩和下密封罩,所述上密封罩与所述下密封罩合起来形成一个密封的腔室;在所述上密封罩和所述下密封罩之间设置有转写薄膜;在所述下密封罩里设置有放置待加工产品的治具,所述治具包括底座和与待加工产品外形结构相匹配的治具本体;所述治具本体装设于所述底座上方;在所述上密封罩上装设有具有抽真空功能的第一抽气结构,在所述下密封罩上装设有具有抽真空功能的第二抽气结构;采用本实用新型所提供的用于化妆品包装容器的空气转写装置,通过将转写薄膜卡设于所述上密封罩和下密封罩之间,然后通过所述第一抽气结构和第二抽气结构,将下密封罩与转写薄膜之间形成真空腔室,从而进行转写工作,结构简单,便于进行二次加工;同时,通过更换不同治具本体,可以对不同形状的异形产品进行转写工作,通用性好。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例1所公开的一种用于化妆品包装容器的空气转写装置的结构示意图;

图2为本实用新型实施例1所公开的一种用于化妆品包装容器的空气转写装置抽真空状态的结构示意图;

图3为本实用新型实施例1所公开的一种用于化妆品包装容器的空气转写装置局部真空状态的结构示意图;

图4为本实用新型实施例1所公开的一种用于化妆品包装容器的空气转写装置转写完成的结构示意图;

图5为本实用新型实施例1所公开的一种用于化妆品包装容器的空气转写装置治具的剖视图;

图6为本实用新型实施例2所公开的一种用于化妆品包装容器的空气转写装置局部示意图。

图中数字和字母所表示的相应部件名称:

1.上密封罩 11.凹槽 12.第一腔室 2.下密封罩

21.凸台 22.第二腔室 3.转写薄膜 4.治具 41.底座

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