[实用新型]辅助投纬结构有效

专利信息
申请号: 201320874899.0 申请日: 2013-12-28
公开(公告)号: CN203653866U 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 章正忠 申请(专利权)人: 吴江市振中纺织品有限公司
主分类号: D03D49/62 分类号: D03D49/62
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 连围
地址: 215200 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 辅助 结构
【说明书】:

所属技术领域

实用新型涉及喷气织机领域,特别地,是一种适用于喷气织机的辅助投纬结构。

背景技术

一台好的织机应达到优质、高产、低耗、环保,而解决此问题的关键在于不断提高织机的入纬率、减少纬纱的回丝率、消除缺纬、减少横挡、降低噪声、提高自动化水平等。随着织机速度的不断提高,用于引纬的绝对时间很短,在引纬过程中,载纬器要在很短的时间内牵引纬纱准确平稳地穿越整个梭口,笨重的有梭引纬显然不太适应,故片梭、剑杆、喷气、喷水等新型引纬方式的应用越来越普遍。

喷气引纬机构主要包括主喷嘴和辅助喷嘴、防气流扩散装置、供气系统。防气流扩散装置主要有两种,一种是管道片,另一种是异型筘。管道片组成管道,管道片之间要留有间隙以容纳经纱,在管道片的径向开有脱纱槽,以便完成引纬后,纬纱从管道中脱出留在梭口中,管道片上方的开口部分,供引纬完成后纬纱从管道片中脱纱槽脱出而留在梭口中。异型筘也称槽筘,主喷嘴与筘槽对准,喷出的气流牵引纬纱在这种特殊筘齿的凹槽中通过梭口。不管是管道片或者使异型筘,纬纱在穿越过程中避免不了因重力下沉,若引纬的速度不够快,这种下沉会直接影响引纬的准确性,造成脱纬的事故。

实用新型内容

为了解决上述问题,本实用新型的目的在于提供一种辅助投纬结构,该辅助投纬结构能够有效防止投纬时纬纱下降。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:

该辅助投纬结构包括设置在上下横梁中的异形筘,所述异形筘由上至下分为上筘条、带弧形边缘的筘槽磁片和下筘条,所述上筘条的下边与所述下筘条的上边构成异形筘筘槽的槽沿,所述筘槽磁片的弧形边缘构成筘槽的槽底,所述上筘条的下边与所述下筘条的上边分别覆盖有第一金属条和第二金属条,所述第一金属条和第二金属条分别连接静电发生器的两极,所述筘槽磁片内设置有磁体,织机的金属喷嘴连接在第二金属条相同的静电发生器电极上。

作为优选,所述筘槽磁片内的磁体为电磁铁。

作为优选,所述筘槽磁片的弧形边缘中心设置有导电层,所述导电层接地。

作为优选,所述导电层为磁化后的铁质。

本实用新型的优点在于:

第一金属条和第二金属条形成的电场力,使纬纱克服一部分重力,而筘槽磁片形成的磁场使纬纱受到洛伦茨力的影响使纬纱克服另一部分重力,使纬纱在引纬时不受重力影响,提高入纬精度。

附图说明

图1是本辅助投纬结构的结构示意图。

图2是本辅助投纬结构筘槽片的结构示意图。

图3是本辅助投纬结构受到电场力和洛伦茨力影响的示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明:

在本实施例中,参阅图1和图2该辅助投纬结构包括设置在上下横梁300中的异形筘100,纬纱10在气流的引导下通过所述异形筘100的筘槽,所述异形筘100由上至下分为上筘条110、带弧形边缘的筘槽磁片200和下筘条120,所述上筘条110的下边与所述下筘条120的上边构成异形筘100筘槽的槽沿,所述筘槽磁片200的弧形边缘构成筘槽的槽底,所述上筘条110的下边与所述下筘条120的上边分别覆盖有第一金属条111和第二金属条121,所述第一金属条111和第二金属条121分别连接静电发生器的两极,所述筘槽磁片200内设置有磁体,织机的金属喷嘴连接在第二金属条相同的静电发生器电极上。

上述的辅助投纬结构,所述筘槽磁片200内的磁体为电磁铁,通过调节电磁铁的磁场强度,可以调整纬纱10受到洛伦茨力的大小,以适应不同材质的纬纱10。

上述的辅助投纬结构,所述筘槽磁片200的弧形边缘中心设置有导电层210,所述导电层210接地,在引纬作业完成之后,纬纱10将进行打纬的作业,打纬时,所述导电层210将纬纱10打入经纱形成的织口中,导电层210将纬纱10上的静电去除。

上述的辅助投纬结构,所述导电层210为磁化后的铁质,使导电层210不影响筘槽磁片200的磁场。

上述的辅助投纬结构的工作方式:

参阅图2和图3,织机的金属喷嘴将带静电的纬纱10喷出,纬纱10经过异形筘100的筘槽,第一金属条111和第二金属条121形成的电场力,使纬纱10克服一部分重力,而筘槽磁片200形成的磁场使纬纱10受到洛伦茨力的影响使纬纱10克服另一部分重力,使纬纱10在引纬时不受重力影响,提高入纬精度。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围。

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