[实用新型]一种用于石墨烯薄膜制备的CVD监控系统

权利要求书

1.一种用于石墨烯薄膜制备的CVD监控系统，其特征在于：包括温控仪、真空泵、流量计、真空计、温度传感器、控制杆、进料和出料输送系统、PLC控制柜、数据线和信号线；所述温控仪、流量计、温度传感器与加热炉连接；所述真空泵、真空计与进料室、加热炉和出料室连接，分别用于抽真空和测量真空度；所述进料和出料输送系统分别位于进料室和出料室；所述控制杆用于所述进料和出料输送系统中的送取物料作业；所述PLC控制柜通过所述数据线和信号线与所述温控仪，真空泵，流量计，真空计，温度传感器，控制杆，进料室、出料室缸盖，进料室、出料室与加热炉之间挡板阀连接。

2.如权利要求1所述用于石墨烯薄膜制备的CVD监控系统，其特征在于：所述温控仪选自任何可将加热温度控制在0~1500℃内的加热装置。

3.如权利要求1所述用于石墨烯薄膜制备的CVD监控系统，其特征在于：所述真空泵选自可将进料室、加热炉和出料室内真空度抽至10^-2Pa的装置。

4.如权利要求1所述用于石墨烯薄膜制备的CVD监控系统，其特征在于：所述流量计选自任何可精确将气体流量控制在0~10slm的装置。

5.如权利要求1所述用于石墨烯薄膜制备的CVD监控系统，其特征在于：所述温度传感器选自任何可精确测量温度的装置，其使用范围为0~1500℃，精度为±0.1℃~±50℃。

6.如权利要求1所述用于石墨烯薄膜制备的CVD监控系统，其特征在于：所述PLC控制柜触摸屏主界面包括温度、流量、真空度实时波形，温控仪电源开关按钮及启动按钮，流量计阀门开关按钮，真空泵电源开关按钮及启动按钮，缸盖开关按钮，进料室、出料室与加热炉间挡板阀开关按钮，总启动按钮，总停止按钮。

7.如权利要求1所述用于石墨烯薄膜制备的CVD监控系统，其特征在于：所述监控系统有手动及自动两种控制方式。