[实用新型]投射式烫画装置有效

专利信息
申请号: 201320881419.3 申请日: 2013-12-30
公开(公告)号: CN203713228U 公开(公告)日: 2014-07-16
发明(设计)人: 许尤理 申请(专利权)人: 苏州尤盛纺织有限公司
主分类号: B41F16/02 分类号: B41F16/02
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 连围
地址: 215228 江苏省苏州市吴江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 投射 式烫画 装置
【说明书】:

所属技术领域

实用新型涉及纺织印花机械领域,特别地,是一种采用光学投射确定印花区域的烫画装置。

背景技术

烫画技术在印刷界的运用十分广泛,包括当前的服装烫花和金属照片都是运用烫画技术完成的图案效果。烫画理论其实非常容易理解,即将影像输出在转印纸上,再以适当的温度与压力转印在不同材质上的过程。看似相当简单,但其实不然!烫画技术易学难精,易因不了解产生误解,这就造成了很多烫画店失败率极高,由于不同的烫画机,所拥有的热转印加热系统也不一样,因此,这种大面积烫印对技术的要求很高。温度是否均匀、压力是否刚好、都将关系着烫画的品质。在烫印过程中,温度与压力都要适中,温度或压力太低无法附著,温度或压力太高图案又会晕花甚至烧焦。

由于烫画的图案不同,烫画机均使用同一热压板无差别的进行热压,而不需要进行覆盖的区域也进行了加热,此区域的织物材质被无端的热压,浪费热量的同时,破坏了织物的原有性能,需要对烫画后的织物再次进行整烫处理。

实用新型内容

为了解决上述问题,本实用新型的目的在于提供一种投射式烫画装置,该投射式烫画装置只对织物印花区域进行热压。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:

该投射式烫画装置包括相互配合的第一基板和第二基板,所述第一基板上设置有带有加热器的导热板,所述第二基板包括框体围绕的透明基板和受温度控制厚度的温敏膜,所述温敏膜设置在所述透明基板上,所述透明基板的下方依次设置有液晶板、聚光透镜和光源。

作为优选,所述温敏膜由双层薄膜构成,所述双层薄膜内均匀的平铺有封闭的腔室,封闭的腔室之间设置有隔热层,所述腔室内充有黑色溶液。

作为优选,所述双层薄膜的上层为黑色下层为透明,且上层薄膜覆盖有热反射膜。

作为优选,所述黑色溶液为水和颜料的混合物。

本实用新型的优点在于:

所述聚光透镜将所述光源发出的光形成平行光,所述液晶板显示的图像修整所述平行光,使平行光的投射面形成与印花轮廓一致的印花区域,所述平行光投射在所述温敏膜上,所述温敏膜受平行光照射的区域受热发生膨胀,所述温敏膜上形成印花区域的凸台,所述凸台与印花轮廓一致,使所述烫画装置只对织物印花区域进行热压。

附图说明

图1是本投射式烫画装置的结构示意图。

图2是本投射式烫画装置温敏膜的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明:

在本实施例中,参阅图1,该投射式烫画装置包括相互配合的第一基板100和第二基板200,所述第一基板100上设置有带有加热器的导热板110,所述第二基板200包括框体围绕的透明基板310和受温度控制厚度的温敏膜300,所述温敏膜300设置在所述透明基板310上,所述透明基板310的下方依次设置有液晶板400、聚光透镜500和光源600。

参阅图2,所述温敏膜300由双层薄膜构成,所述双层薄膜内均匀的平铺有封闭的腔室,封闭的腔室之间设置有隔热层330,所述腔室内充有黑色溶液,黑色溶液可以很好的吸收来自所述光源600的光和热辐射。

上述的投射式烫画装置,所述双层薄膜的上层为黑色下层为透明,且上层薄膜覆盖有热反射膜320,使来自光源600的光和热辐射大部分被所述所述温敏膜300吸收,同时所述热反射膜320使织物不受到来自光源600的光和热辐射影响。

上述的投射式烫画装置,所述黑色溶液为水和颜料的混合物,使用水有廉价的制造成本,且水蒸发后有很高的膨胀系数。

上述的投射式烫画装置的拉丝原理:

所述聚光透镜500将所述光源600发出的光形成平行光,所述液晶板400显示的图像修整所述平行光,使平行光的投射面形成与印花轮廓一致的印花区域,所述平行光投射在所述温敏膜300上,所述温敏膜300受平行光照射的区域受热发生膨胀,所述温敏膜300上形成印花区域的凸台,所述凸台与印花轮廓一致,使所述烫画装置只对织物印花区域进行热压。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围。

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