[实用新型]一种带隔离涂层的多晶硅铸锭用坩埚

权利要求书

1.一种带隔离涂层的多晶硅铸锭用坩埚，其特征在于：包括用于填装硅料（1）的石英坩埚（2），所述石英坩埚（2）的内侧壁与底部均均匀喷涂有一层氮化硅涂层（3），所述石英坩埚（2）内侧壁与底部的氮化硅涂层（3）上均均匀喷涂有一层硅粉涂层（4）；所述石英坩埚（2）内侧壁上所喷涂的硅粉涂层（4）与硅料（1）之间垫装有一层由块状多晶硅拼装形成的护边（5）。

2.按照权利要求1所述的一种带隔离涂层的多晶硅铸锭用坩埚，其特征在于：所述硅粉涂层（4）的层厚小于氮化硅涂层（3）的层厚。

3.按照权利要求1或2所述的一种带隔离涂层的多晶硅铸锭用坩埚，其特征在于：所述石英坩埚（2）底部平铺有一层碎硅片铺装层一（6），所述碎硅片铺装层一（6）上平铺有一层与硅料（1）同步熔化的碎硅片铺装层二（7），所述碎硅片铺装层二（7）平铺在碎硅片铺装层一（6）与硅料（1）之间；所述碎硅片铺装层一（6）为位于碎硅片铺装层二（4）与石英坩埚（1）底部所喷涂的硅粉涂层（4）之间的垫层，所述碎硅片铺装层一（6）和碎硅片铺装层二（7）的厚度均不小于5mm，且碎硅片铺装层一（6）和碎硅片铺装层二（7）的总厚度不小于20mm；所述护边（5）位于碎硅片铺装层二（7）上方。

4.按照权利要求1或2所述的一种带隔离涂层的多晶硅铸锭用坩埚，其特征在于：所述护边（5）的外部结构和尺寸均与石英坩埚（2）的内部结构和尺寸相同。

5.按照权利要求1或2所述的一种带隔离涂层的多晶硅铸锭用坩埚，其特征在于：所述护边（5）的顶部高度高于石英坩埚（2）的顶部高度。

6.按照权利要求5所述的一种带隔离涂层的多晶硅铸锭用坩埚，其特征在于：所述护边（5）的顶部高度比石英坩埚（2）的顶部高度高40mm～45mm。